Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9208048 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9208048
Weinlese: 2002
PVD System, 8"
Single board computer in controller: V452
Copper barrier / Seed
Wafer handling: SNNF
Front panel type: Light pen
Loadlock vents: Variable speed
Buffer / Transfer robot: HP
Blade material: Thin metal
Chamber A: Bypass
Chamber B: Cool
Chamber E: Degas
Chamber F: Degas
Chamber C: Pre clean
Vacuum pump type: Turbo/dry
RF Match: PVD 200
Cable length: 50 Feet
Pedestal type: Cylinder
Power supply 1: CPS-1001S
Power supply 2: RFPP LF10A
Chamber 1 / 2:
Body style: WB
Source type: VECTRA IMP
Power supply: MXD-L12M 12KW
Heater: B101
Dual TC amp kit: No
Pedestal: B101
Target: D-Bond
Magnet: RH-2
Magnet shim thx: 0.75 mm
Gasline fittings: VCR
Loadlock fittings: VCR
Process MFC-1: 1 Ar 100
Process MFC-2: 1 Ar 100
Paste chamber: No
System roughing pump type: Dry
Chamber cryo pump type: CTI OB-8F, 3 phase
Heat exchangers: 1000
Cryo compressors: 9600 X2
Umbilicals:
Mainframe to controller: 75 Feet
Mainframe to generator racks: 75 Feet
Mainframe to cryo compressor: 75 Feet
Main AC to system controller/sys AC: 75 Feet
System AC to primary generator rack: 50 Feet
Main AC to primary generator rack: 6 Feet
Main AC to pump frame: 50 Feet
Main AC to NESLAB heat exchanger: 50 Feet
Monitor cable: 50 Feet
2002 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein plasmaverbesserter PECVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition) der nächsten Generation, der eine zuverlässige, leistungsstarke Abscheidung für eine breite Palette von Dünnschichtanwendungen in der Halbleiterbauelementherstellung ermöglicht. Die Ausrüstung verwendet fortschrittliche Plasmatechnologie, um hochwertige, gleichmäßige dünne Filme mit überlegener Prozesskontrolle zu produzieren. Der AKT Endura 5500 Reaktor ist mit einem kompakten, leicht zu bedienbaren Design ausgestattet und eignet sich gut für Hochdurchsatzfertigungen. Das System ermöglicht es Benutzern, Prozessparameter unabhängig für jede Kammer einzustellen, was eine präzise Steuerung und Gleichmäßigkeit über den gesamten Prozess bietet. Dadurch wird sichergestellt, dass die Dünnschichtabscheidung gleichmäßig und konsistent ist und qualitativ hochwertige Ergebnisse liefert. AMAT ENDURA 5500 nutzt zudem eine Reihe ausgeklügelter Plasma- und Gasphasentechnologien, um die Prozessleistung zu optimieren und die Prozesssicherheit zu erhöhen. Durch eine gleichmäßige Abscheidung in einer sehr konsistenten Umgebung kann die Einheit dickere, dünnere und mehrschichtige Folien mit präzisen Kontroll- und vorhersagbaren Ergebnissen erzeugen. Darüber hinaus ermöglicht AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 durch seine fortschrittliche integrierte Prozessüberwachung, Diagnose und Prozessoptimierung eine hervorragende Prozesssteuerung. Darüber hinaus bietet der AMAT Endura 5500 eine erhöhte Sicherheit und Zuverlässigkeit. Die Maschine verwendet intelligente Sensoren, um sowohl die Plasma- als auch die Temperaturbedingungen ständig zu überwachen. Dies liefert Echtzeit-Feedback zum Status des Tools, so dass Betreiber potenzielle Leistungsprobleme schnell identifizieren und beheben können. Insgesamt bietet AMAT/Endura 5500 eine einfach zu bedienende, zuverlässige und effiziente Lösung für die Dünnschichtabscheidungsbedürfnisse der Halbleiterbauelementherstellung. Mit seiner fortschrittlichen Plasmatechnologie und der integrierten Prozessüberwachung und -optimierung liefert APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 zuverlässige, einheitliche und präzise Abscheidungsergebnisse, die perfekt für die Serienproduktion geeignet sind.
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