Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9219406 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9219406
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
System, 8"
Wafer shape: SNNF
MF Facilities: Bottom
Chamber 1: STD WC Body
Process 1: ESC AL
Chamber 2: Wide body
Process 2: TTN
Chamber 3: Wide body
Process 3: TTN
Chamber 4: Wide body
Process 4: Ti
Chamber A: Pass through
Chamber B: Cooldown
Chamber C/D: PCII
Process C/D: Oxide etch
Chamber F: O/D With temp
Heat exchanger 1: NESLAB I
Loadlock pump type: iL600
Transfer robot type: HP+
Transfer robot blade: Metal
Buffer robot type: HP+
Buffer robot blade: Metal
Wafer sensor: Mini beam
Loadlock type: Narrow BD without tilt out
System umbilical: 50 ft
EMOs: Turn to release
Hard drive: SCSI
(2) CRTs
GEM: No
OTF: No
No Facility power (UPS)
No loadlock pump
Loadlock slit valve O-rings: Viton (Black)
Heat exchanger 1: NESLAB
Heat exchanger 2: M-Pack
Main AC box: 480 V, Wide type
Chamber A:
Chamber type: Pass through
Chamber lid: STD Lid
Lift hoop & finger
Pedestal type: Standard
Chamber B:
Chamber type: Cooldown
Gas valves: Fujakin
Heater / Cathode cooling: PCW
Chamber lid: STD Lid
Pedestal type: Standard without TC option
Chamber C:
Chamber type: PCII
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: Oxide etch
Lid type: RF Resonator
RF Gen / DC supply 1: COMDEL CPS-1001S
RF Gen / DC supply 2: RFPP LF10A
RF Match: 13.56 MHz
No endpoint system
Process kit type: PIK-I
Chamber pump: EDWARD iL70
Turbo pump: LEYBOLD
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 20 SCCM STEC 4400 MFC9 (2) Manifolds
N2 300 SCCM MC-3102E-NC MFC10 (2) Manifolds
Chamber D:
Chamber type: PCII
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: Oxide etch
Lid type: RF Resonator
RF Gen / DC supply 1: COMDEL CPS-1001S
RF Gen / DC supply 2: RFPP LF10A
RF Match: 13.56 MHz
No endpoint system
Process kit type: PIK-I
Chamber pump: EDWARD iL70
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 20 SCCM STEC 4400 MFC12 (2) Manifolds
N2 300 SCCM MC-3102E-NC MFC13 (2) Manifolds
Chamber 1:
Chamber type: STD WC Body
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: ESC AL
Lid type: 12.9"
RF Gen / DC Supply 1/2: AE MDX-L12M
Susceptor / Pedestal: MCA ESC
Heater / Cathode cooling: NESELAB I
No endpoint system
Gate valve position: 3 POS
Process kit type: ESC AL
Chamber pump: Cryo pump (OB8F-3 Phase)
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 100 SCCM STEC 4400 MFC18 (2) Manifolds
N2 20 SCCM STEC 4400 MFC9 (2) Manifolds
Chamber 2:
Chamber type: Wide body
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: TTN
Lid type: 12.9"
RF Gen / DC Supply 1: AE MDX-L12M
Susceptor / Pedestal: 101
No endpoint system
Gate valve position: 3 Pos
Process kit type: (2) Ti/TiN
Chamber pump: Cryo pump (OB8F-3 Phase)
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 300 SCCM STEC 7440 MFC9 (2) Manifolds
N2 100 SCCM STEC 4400 MFC10 (2) Manifolds
Chamber 3:
Chamber type: Wide body
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: TTN
Lid type: 12.9"
RF Gen / DC Supply 1: AE MDX-L12M
Susceptor / Pedestal: 101
No endpoint system
Gate valve position: 3 Pos
Process kit type: (2) Ti/TiN
Chamber pump: Cryo pump (OB8F-3 Phase)
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 100 SCCM STEC 4400 MFC2 (2) Manifolds
N2 300 SCCM STEC 4400 MFC3 (2) Manifolds
Chamber 4:
Chamber type: Wide body
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: TTN
Lid type: 12.9"
RF Gen / DC Supply 1: AE MDX-L12M
Susceptor / Pedestal: MCA ESC
Heater / Cathode cooling: NESELAB I
No endpoint system
Gate valve position: 3 Pos
Process kit type: ESCAL
Chamber pump: Cryo pump (OB8F-3 Phase)
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 20 SCCM STEC 4400 MFC4 Single
N2 100 SCCM STEC 4400 MFC5 (2) Manifolds
N2 200 SCCM STEC 4400 MFC6 (2) Manifolds
Missing ES chuck
System power: 200 VAC, 60 Hz, 3 phase, 343 A,150 kVA
2001 vintage.
AKT (AMAT) AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein leistungsstarker, eigenständiger Reaktor für die Herstellung von fortschrittlichen Halbleitern. AKT Endura 5500 ist in der Lage, hohe Durchsätze und niedrige Defektraten für eine Vielzahl von Substraten und Materialien zu erreichen. Die Geräte werden von einer skalierbaren, modularen Architektur angetrieben, die die fortschrittlichsten Halbleiterprozesse und Fertigungstechniken unterstützt. AMAT ENDURA 5500 ist mit einer Vielzahl von einzigartigen Merkmalen ausgestattet, die eine optimale Produktivität gewährleisten. Es verfügt über ein leistungsfähiges Wafer-Handling-System, mit dem Wafer schnell und einfach geladen werden können. APPLIED MATERIALS Endura 5500 verfügt auch über eine automatisierte Wafer-Mapping-Einheit, die die Gleichmäßigkeit der Waferbearbeitung gewährleistet. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein fortschrittliches Prozesskontrollwerkzeug, das die Prozesstemperaturen und andere kritische Parameter kontinuierlich überwacht. AMAT Endura 5500 wurde entwickelt, um überlegene Produktionssicherheit für hohe Serienproduktion zu bieten. Es verfügt über eine fortschrittliche Kühlung, die einen effizienten Betrieb gewährleistet und Ausfallzeiten minimiert. Darüber hinaus ist Endura 5500 mit Umweltschutzmaßnahmen wie Luftabgasfiltration, Vakuumregelung und Temperaturmoderation ausgelegt. Dies gewährleistet einen sicheren Betrieb sowohl in der Produktion als auch in Laborumgebungen. Ästhetisch besticht ENDURA 5500 durch ein attraktives, schlankes Design. Das Modell ist eigenständig konzipiert und verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, die leicht zu erlernen und zu bedienen ist. Das Gerät verfügt auch über eine Reihe von optionalen Funktionen, wie einen erweiterten Scanner zur Analyse von Wafern, die hinzugefügt werden können, um seine Leistung weiter zu verbessern. Neben seiner beeindruckenden Leistung und Ästhetik bietet APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 eine Reihe produktivitätssteigernder Funktionen. Es ist für hohen Durchsatz und niedrige Fehlerraten ausgelegt und kann eine Vielzahl von optischen, Wafer- und Prozessanforderungen erfüllen. Darüber hinaus liefert die erweiterte Steuereinheit des Systems detaillierte Daten über Prozessparameter, sodass Benutzer den Prozess nach Bedarf anpassen können. AKT ENDURA 5500 ist ein außergewöhnlich zuverlässiger Reaktor, der dem Anwender eine hohe Prozessflexibilität bietet. Es ist die ideale Lösung für großvolumige Halbleiterproduktionsanwendungen und eignet sich sowohl für Labor- als auch für Produktionsumgebungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor