Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9228722 zu verkaufen

ID: 9228722
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2006
PVD Systems, 8" Wafer shape: SNNF Front panel type: Painted Light tower: R / Y / G Transfer chamber: VHP Robot Wide body loadlock (4) Chambers Buffer robot: HP+ Metal blade Transfer robot: VHP With metal blade Chamber A: Pass through Chamber B: Cool down Chamber C: Pre clean Chamber E & F: Orienter / Degas Chamber 1: Standard body AL4 finger Chamber 2: SIP TTN With bias ESC Chamber 4: TN Durasource TTN A101 Transformer type: Variable / 150 kVA, 480 - 380 V System power: Variable / 150 kVA 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein innovativer Reaktor, der den Anforderungen moderner Halbleiterherstellungsprozesse gerecht wird. Der Reaktor kombiniert hochwertige Fertigung und robuste Technik mit fortschrittlichen Materialien und Technologien für mehr Zuverlässigkeit und Prozesswiederholbarkeit. AKT Endura 5500 nutzt eine voll ausgestattete PC-basierte Steuerung, die eine breite Palette von programmierten Funktionen und Fähigkeiten bietet und eine flexible, präzise Prozesssteuerung ermöglicht. AMAT ENDURA 5500 wurde entwickelt, um die Anforderungen aller Dünnschichtbeschichtungs-, Abscheide- und Ätzprozessanforderungen zu erfüllen. Dieses kompakte, modulare System bietet die Möglichkeit, mehrere Materialien und Technologien für eine Vielzahl von Prozessen zu akzeptieren und zu integrieren. Die automatisierten Kammersteuerungen reduzieren die manuellen Anforderungen an die Bedienereinstellung und bieten gleichzeitig die Flexibilität für eine Vielzahl von Prozessen. Eine intuitive grafische Einheit steht auch zur kompletten Bedienung zur Verfügung. Zu den Standardmerkmalen des Endura 5500 gehört ein robustes Glockenglas-Design mit vier randgeschweißten, flachen Platteneinlagen für eine effiziente Arbeitsumgebung. Der Reaktor beinhaltet außerdem einen einstellbaren One-Touch-Lift, automatisches Be- und Entladen der Kammer und einen vollständig abgedichteten Doppelverschluss. Für zusätzliche Sicherheit ist die Maschine auch mit einem automatischen Vakuumleckerkennungswerkzeug ausgestattet. ENDURA 5500 hat einen Betriebstemperaturbereich von -20 ° C bis + 300 ° C und eine Substrattemperatur von -20 ° C bis + 170 ° C. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 ist mit einer leistungsstarken und energieeffizienten frequenzgeschalteten Gleichstromversorgung (DCS) zur präzisen Prozesssteuerung ausgestattet. Die Anlage ist auch in der Lage, eine Reihe von Abscheidungs- und Ätzprozessen durchzuführen, von der schnellen thermischen Verarbeitung bis zur chemischen Dampfabscheidung (CVD), sowie Widerstandsheizung, Diffusion und mehr. Mit seinen fortschrittlichen Fähigkeiten und der hochwertigen Fertigung ist AKT ENDURA 5500 ideal für moderne Halbleiterherstellungsprozesse. Es ist so konzipiert, dass es zuverlässig und wiederholbar mit genauer Prozesskontrolle für mehr Effizienz ist. Der Reaktor erfüllt die strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie und bietet ein außergewöhnliches Modell für die anspruchsvollsten Prozesse von heute.
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