Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9241774 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9241774
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
MOCVD System, 8"
Wafer shape: SNNF
MF Facilities: Bottom
Load lock type: Narrow BD without tilt out
CTI-CRYOGENICS Buffer chamber
CTI-CRYOGENICS Transfer chamber
No SMIF interface
Mainframe:
Buffer robot type: HP+
Wafer sensor: Mini beam
Buffer robot blade: Metal
Transfer robot type: HP+
Transfer robot blade: Metal
Hard Disk Drive (HDD): SCSI
(2) CRT Monitors
Chamber 1:
Type: IMP Vectra
Process 1: Ti
Susceptor / Pedestal: B101
Process kit type: IMP
Single manometer configuration
Lid type: G12
Chamber pump: 3P Onboard 8F
Manometer 1: 100 mTorr
Heater / Cathode cooling: NESLAB II
CTI-CRYOGENICS Cryo pump
LEYBOLD Turbotronik NT 150/360 Turbo controller
(2) RF Generators / DC Supplies
ADVANCED ENERGY MDX-L12M
ADVANCED ENERGY HFV-8000
ADVANCED ENERGY CX-600S
RF Match: 13.56 MHz, 2 MHz
Shutter option
Gate valve position: 3-Position
2 MHz Matching box capacitor: 0.01uF
Chamber 2:
Chamber type: TxZ HP+
Process 2: CVD TiN
Susceptor / Pedestal: HP+
Dual manometer
Wall cooling: AMAT1
Chamber pump: AA70W
Manometer 1: 10 Torr
Manometer 2: 100 Torr
No endpoint system
Throttle valve
Heater / Cathode cooling: PCW
ADVANCED ENERGY PDX 900-2V RF Generator / DC Supply
LEYBOLD 361C Turbo pump
LEYBOLD Turbotronik NT 150/360 Turbo controller
EBARA AA70W Pump
Gate valve position: 2-Positions
Chamber 3:
Chamber type: TxZ HP+
Chamber process: CVD TiN
Pump configuration: 361C
Susceptor / Pedestal: HP+
Dual manometer
Wall cooling: AMAT1
Chamber pump: AA70W
Manometer 1: 10 Torr
Manometer 2: 100 Torr
Throttle valve
Heater / Cathode cooling: PCW
ADVANCED ENERGY PDX 900-2V RF Generator / DC Supply
LEYBOLD 361C Turbo pump
EBARA AA70W Pump
Gate valve position: 2-Positions
No endpoint system
Chamber A:
Chamber type: Pass through
Chamber lid: Clear lid
Chamber B:
Chamber type: Cool down
Heater / Cathode cooling: PCW
Chamber lid: Clear lid
Chamber D:
Chamber type: PCII
Chamber process: Oxide etch
Single manometer
Lid type: Resonator
EDWARDS iL600N Chamber pump
Manometer 1: 100 m Torr
COMDEL CPS 1001S RF Generator / DC Supply
LEYBOLD Turbovac 361C Turbo pump
LEYBOLD Turbotronik NT 150/360 Turbo controller
EBARA iL70 Pump
RFPP LF10A RF Generator / DC Supply
RF Match: 13.56 MHz
COMDEL CPS-1001S
RFPP LF-10A
Module:
AMAT / APPLIED MATERIALS System controller
(2) AMAT / APPLIED MATERIALS Generator racks
AMAT / APPLIED MATERIALS Main AC box
NESLAB
AMAT / APPLIED MATERIALS Heat exchanger
CTI-CRYOGENICS 9600 Compressor
CTI-CRYOGENICS 3P Motor controller
EDWARDS iL600N Pump
Controllers:
Slot / Top rack board
1 / SBC Board
2 / Videl board
3 / OMS Board
4 / Digital input / Output board 1
5 / Digital input / Output board 2
6 / Digital input / Output board 3
7 / Digital input / Output board 4
8 / Digital input / Output board 5
9 / Digital input / Output board 6
10 / SEI Board
13 / Digital input / Output board 7 (Option)
14 / AO Board 1 (Option)
15 / Stepper board 1
18 / Stepper board 2
19 / AI Board
20 / AO Board 2
21 / AO Board 3
22 / Hard Disk Drive (HDD)
23 / Grounding JAC
24 / Convectron board
25 / Convectron board
26 / Convectron board
27 / Convectron board
28 / TC
29 / TC
30 / ION Gauge board 1
31 / ION Gauge board 2
32 / Spare
33 / Digital input / Output board 8
34 / Digital input / Output board 9
35 / Digital input / Output board 10
37 / Digital input / Output board 12
39 / Digital input / Output board 14
40 / Floppy disk
42 / Cryo temp
43 / AI Mux
44 / AI Mux
45 / AI Mux
47 / Opto detect board 1
48 / Opto detect board 2
49 / Opto detect board 3
Power supply: 200 VAC, 60 Hz, 3 Phase, 343 A, 150 kVA
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein innovativer, automatisierter Dünnschicht-Beschichtungsreaktor (CVD) für moderne Halbleiter-, Solar-, Optoelektronik- und andere Anwendungen. Mit einem Prozesskammervolumen von 5500 Litern und einem Warmwandreaktor-Design bietet der AKT Endura 5500 Reaktor dank einer umfangreichen aktiven Kühleinrichtung eine hohe thermische Effizienz und Zuverlässigkeit. Der Reaktor basiert auf einem von AKT patentierten Hotwall-Verfahren, das optimale Wachstumsbedingungen für eine Vielzahl von Dünnschichtmaterialien ermöglicht. AMAT ENDURA 5500 verwendet patentierte Liner, mit denen Wafer direkt in die Kammer geladen werden können, ohne extern erzeugte Partikel in den Prozess einzubringen. Diese Liner sind entworfen, um Taschen und Ausdünnung der Wafer durch Feldverdrängung zu minimieren oder zu beseitigen. Zusätzlich behält der mitgelieferte Waschstreifen die höchste Prozessreinheit innerhalb der Kammer bei. Darüber hinaus beinhaltet APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 eine bordeigene Messkammer zur Optimierung der Prozesssteuerung und zur Bereitstellung optimaler Filmattribute. AKT ENDURA 5500 verwendet ein innovatives gleichförmiges Injektor-Anregungssystem und ein patentiertes Mehrpunkt-Anregungsmuster, um Schatteneffekte zu eliminieren, Gleichmäßigkeit über größere Wafergrößen zu erzielen und ein einheitliches Plasma für effizientes und gleichmäßiges Filmwachstum bereitzustellen. Das Heißwanddesign des Reaktors schafft eine ideale Arbeitsumgebung für fortschrittliche Materialien, die auch bei hohen Temperaturen hervorragende Filmeigenschaften ergeben. Motorisierte Trägerbeladungs- und Endstationsroboter sind so konzipiert, dass sie einen hohen Volumendurchsatz unterstützen. Die vollautomatisierte Einheit bietet eine Lastschloßkammer, eine Human Machine Interface (HMI) zur vereinfachten Steuerung, Temperaturregelung und Echtzeitüberwachung während des Betriebs. Zusammenfassend ist AMAT Endura 5500 ein zuverlässiger und effizienter CVD-Reaktor, der für die Steuerung und Produktion von Prozessflüssigkeiten konzipiert ist. Mit einer 5500-Liter-Prozesskammer und externen Wäschereinlagen ist diese Hotwall-Maschine ideal für den Anbau von Dünnschichtmaterialien und für optimale Dünnschichteigenschaften. Das gleichförmige Injektoranregungswerkzeug, die Mehrpunkt-Anregungsmuster und die motorischen Trägerbeladungsmöglichkeiten bieten eine hocheffiziente und zuverlässige Ausstattung für die hochfrequenzbasierte Dünnschichtabscheidung.
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