Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9241831 zu verkaufen

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AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500
Verkauft
Reaktoren
Hersteller
AMAT / APPLIED MATERIALS
Modell
Endura 5500
ID: 9241831
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2000
System, 6" Load lock chamber: LLC Type: Narrow body Indexer without rotation Wafer mapping CH Vent: Slow / Fast vent No wafer slide out detector Buffer chamber: Robot unit: HP Blade type: Metal Upper & lower motor (2) Gate valves Cryo pump: 3 Phase (7) Wafer sensors Transfer chamber: Robot unit: HP Blade type: Metal Upper & lower motor (2) Gate valves Cryo pump: 3 Phase (6) Wafer sensors Chamber A: Pass through Chamber B: Cool down Chamber A / B: Lid type: Clear plastic Wafer lift Wafer lift hoop No TC monitor Chamber E / F: Oreintor degas Degas lamp module Wafer lift Wafer lift hoop Wafer chuck Orientor controller PCB Laser tub missing Laser CCD array PCB No TC No TC amp Chamber 1: PVD Wide body Source assy: 11.3" Source bracket kit Coh ti adaptor plate Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp Manometer: MKS 100 mT Ar Backside (2) Gate valves Ion gauge Shutter option Cryo pump: 3 Phase Heater type: Clamp Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic 1/8 poly line set Chamber 2: PVD Wide body Source assy, 11.3" Source bracket kit Adaptor plate: WB to STD 13" Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp Manometer: MKS 100 mT Ar Backside (2) Gate valves Ion gauge Shutter option Cryo pump: 3 Phase Heater type: Clamp Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set Chamber 3 / 4: PVD Wide body Source assy: 11.3" Source bracket kit Adaptor plate: WB to STD 13" Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp Manometer: MKS 100 mT Convectron gauge Ar Backside (3) Gate valves: PVD Ion gauge Shutter option Cryo pump: 3 Phase Heater type Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set Chamber C: PCII Etch Resonator Pedestal lift MKS Manometer Convectron gauge Ion gauge Turbo pump Wafer lift RF Match No process kit Chamber 1,2,3,4 & C: Gas panel assy MFC: (STEC 4400) MFC Down steam valve Manual shut off valve MFC Control cable MFC Inter-connect PCB Sub-module: Cryo compressor: CTI 9600 & 8500 (2) Cryo controllers: 3 Phase Chiller: NESLAB III Vacuum pump System pump: BOC EDWARDS QDP40 PCII Pump: BOC EDWARDS QDP40 + MB250 System rack: VEM SBC Video SEI (12) DIO AI (2) AO (3) Opto PCB (2) AI Mux Cryo temp /AI MUX (4) Steppers PCB TC Gauge PCB (2) Ion gauge PCB (4) Invertron gauge PCB OMS PCB Hard disk FD Disk (4) 2-Phase HTR lift drivers (6) 5-Phase robot drives RF Rack: RF/DC Rack Turbo controller (5) ISO AMP (4) DC/RF Generator interlocks PCB DC Power supply DC Generator: Model ADVANCE ENERGY MDX-L series RF Generator CPS 1001 RF Generator RFPPLF10A AC Rack type: 480 VAC, 3 Phase, 4+1 Wire with transformer DC Power supply: +5 VDC / +24 VDC DC Power supply: +/-15 VDC / +/-12 VDC 2000 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein gasreessenzieller, in situ Ätzreaktor für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung und Werkzeugtechnik. Es wurde entwickelt, um eine optimale Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit für Ätzanwendungen mit einer Kombination aus inerten oder reaktiven Gasen und einem optimierten Substrat-zu-Antenne-Design zu gewährleisten. AKT Endura 5500 verfügt über einen zweisubstratfähigen Reaktor, mit einer unteren Kammer und einer oberen Kammer. Die untere Kammer ist für Hochgeschwindigkeitsätz- und Abscheideprozesse optimiert, während die obere Kammer ein größeres Prozessfenster für Ätz- und Abscheideprozesse bietet, das eine präzisere Steuerung erfordert. AMAT ENDURA 5500 ist mit einem rauscharmen, leistungsarmen, aktiv gekühlten Plasma ausgestattet, das einen zuverlässigen Betrieb für eine Vielzahl von Ätz- und Abscheidungsprozessen ermöglicht. Die integrierte dynamische Druckregelung ermöglicht die Einstellung der HF-Leistung, um eine optimale Prozessgleichförmigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 verwertet eine Überschallfrequenzumwandlungstechnologie, um einheitliche Heizung des Substrats und das einheitliche Ätzen von Polymern und anderem organischem Material zu sichern. Die Breitbandfähigkeit des Reaktors APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 ermöglicht es Anwendern, den Durchsatz und die Nutzung ihrer Werkzeuge zu maximieren und gleichzeitig ihre Leistung zu optimieren. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 verfügt auch über eine Vielzahl fortschrittlicher Prozessüberwachungssysteme, einschließlich optischer Emissionsspektroskopie, thermischer Bildgebung und optischer Mikroskopieanalyse. Mit AKT ENDURA 5500 können Anwender kritische Prozessparameter in Echtzeit überwachen und bei Bedarf Anpassungen vornehmen, was eine bessere Prozesssteuerung und -optimierung ermöglicht. Das System ist einfach zu bedienen, hochgenau und bietet eine breite Palette von Programmierbarkeit für die direkte Steuerung und Überwachung aller wichtigen Prozessparameter. Für einen sicheren und zuverlässigen Betrieb umfasst der AMAT Endura 5500 auch ein eingebautes Sicherheitssystem mit Sicherheitsverriegelungen und Schutzhardware, um Bediener und Geräte vor unerwarteten Gefahren zu schützen. Es umfasst eine Vielzahl von Bewegungs- und Wärmesteuerungssystemen, mit denen Benutzer es nach ihren spezifischen Anforderungen konfigurieren können. Endura 5500 bietet auch ein automatisiertes Wartungssystem, um sicherzustellen, dass es in Topform und bereit für optimale Ätz- und Ablagerungsvorgänge gehalten wird.
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