Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9257162 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9257162
Sputtering system, 6"
Load lock chamber:
LLC Type: Narrow body
Indexer without rotation
Wafer mapping
CH Vent: Slow / Fast vent
No wafer slide out detector
Buffer chamber:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD Robot
Upper and lower motors
(2) Gate valves
Cryo pump: 3 Phase
(7) Wafer sensors
Transfer chamber:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD Robot
Upper and lower motors
(2) Gate valves
Cryo pump: 3 Phase
(6) Wafer sensors
Chamber A: Pass through
Chamber B: Cool down
Chamber A / B:
Lid type: Clear plastic
Wafer lift
Wafer lift hoop
No TC monitor
Chamber E / F: Orienter degas
Degas lamp module
Wafer lift
Wafer lift hoop
Wafer chuck
Orienter controller PCB
Laser CCD array PCB
No TC
No TC amp
Chamber 1: PVD Wide body
Source assy: 11.3"
Source bracket kit
COH TI Adapter plate
Wafer lift: Clamp
Heater: Clamp
Heater water box: Clamp
MKS 100 mT Manometer
Ar Backside
(2) Gate valves
Ion gauge
Shutter option
Cryo pump, 3 Phase
Heater type: Clamp
Chamber harness
Chamber inter-connect PCB
Chamber process gas line
Chamber vent line
Chamber source water manifold
Chamber pneumatic 1/8 poly line set
Chamber 2: PVD Wide body
Source assy, 11.3"
Source bracket kit
Adapter plate: WB to STD 13"
Wafer lift: Clamp
Heater: Clamp
Heater water box: Clamp
MKS 100 mT Manometer
Ar Backside
(2) Gate valves
Ion gauge
Shutter option
Cryo pump: 3 Phase
Chamber harness
Chamber inter-connect PCB
Chamber process gas line
Chamber vent line
Chamber source water manifold
Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set
Chamber 3 / 4: PVD Wide body
Source assy: 11.3"
Source bracket kit
Adapter plate: WB to STD 13"
Wafer lift: Clamp
Heater: Clamp
Heater water box: Clamp
MKS 100 mT Manometer
Convectron gauge
Ar Backside
(3) Gate valves: PVD
Ion gauge
Shutter option
Heater type
Chamber harness
Chamber inter-connect PCB
Chamber process gas line
Chamber vent line
Chamber source water manifold
Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set
Chamber C: PCII Etch
Resonator
Pedestal lift
MKS Manometer
Convectron gauge
Ion gauge
Turbo pump
Wafer lift
RF Match
No process kit
Chamber 1, 2, 3, 4, C:
Gas panel assy
MFC: STEC 4400
MFC Down steam valve
Manual shut off valve
MFC Control cable
MFC Inter-connect PCB
Sub-module:
CTI-CRYOGENICS 9600 Cryo compressor
(2) Cryo controllers: 3 Phase
NESLAB III Chiller
Vacuum pump
System pump: BOC EDWARDS QDP40
PCII Pump: BOC EDWARDS QDP40 + MB250
System rack: VEM
SBC
SEI
(12) DIO
AI
(2) AO
(3) Opto PCB
(2) AI MUX
Cryo temp / AI MUX
(4) Steppers PCB
TC Gauge PCB
(2) Ion gauges PCB
(4) Invertron gauges PCB
OMS PCB
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD)
(4) HTR Lift drivers, 2-Phase
(6) Robot drives, 5-Phase
RF Rack:
RF / DC Rack
(5) ISO Amp
(4) DC / RF Generator interlocks PCB
DC Power supply
ADVANCED ENERGY MDX-L12 DC Generator
CPS 1001 RF Generator
RFPPLF10A RF Generator
Missing parts:
Metal blades
Laser tubes
Heater type: Clamp
Cryo pump, 3 Phase
Turbo controller
RF / DC Rack
ADVANCED ENERGY MDX-L Series DC Generator
RF Generator, 13.56 MHz / 400 kHz
Power supply:
AC Rack type: 480 VAC, 3 Phase, 4+1 Wire with transformer
DC Power supply: +5 VDC / +24 VDC
DC Power supply: +/-15 VDC / +/-12 VDC
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein Hochdichteplasmareaktor auf Halbleiterbasis für Wet Etching. Dieser Reaktor wurde entwickelt, um eine überlegene Gleichmäßigkeit in der Produktion und Konstruktion fortschrittlicher integrierter Schaltungen zu gewährleisten. Es bietet eine breite Palette von Optionen für Plasmaressourcen sowie hochmoderne Funktionen zur Prozesssteuerung und -überwachung. Das AKT Endura 5500 Aktionssystem wurde entwickelt, um die Prozessabweichung zu reduzieren und gleichzeitig die Leistung und den Ertrag zu verbessern. AMAT ENDURA 5500 ist als Galliumnitrid (GaN) -Ätzverfahren ausgelegt. Es verfügt über ein diodengepumptes Pulsplasmaquellenmodul, ein Prozesssteuermodul und ein Ätzmodul. Die Puls-Plasmaquelle ist eine Hochdruck-Hochleistungseinrichtung, die eine Feinsteuerung von Plasmaparametern zur Verbesserung der Ätzleistung ermöglicht. Das Prozesssteuerungsmodul bietet Flexibilität für verschiedene Produktionsanforderungen. Es ist in der Lage, mehrere Gasleitungen und Förderventile zu steuern, sowie einfaches Echtzeit-Schalten mehrerer Ätzparameter, wie: Gasdruck, Plattenspannung, Ätzzeit, Plattenspannungsvorspannung, Kammertemperatur und andere. Das Ätzmodul soll Flexibilität, Beschleunigung des Ätzprozesses und Gleichmäßigkeit der Ätzmuster bieten. Es verfügt über ein replizierbares Plattendesign, um mögliche Prozessabweichungen zu reduzieren und gleichzeitig spezielle Plattendesigns für spezielle Ätzprozesse zu ermöglichen. AKT ENDURA 5500 ist ein hochzuverlässiger Reaktor mit geringem Wartungsaufwand. Es ist in der Lage, niedrige Defektrate zu erreichen, unter Beibehaltung hoher Produktausbeuten. Der Reaktor ist für einfache Bedienung mit intuitiver Benutzeroberfläche und einfacher, schrittweiser Prozessunterstützung ausgelegt. Sie liefert Prozessingenieuren und Produktionspersonal wertvolles Feedback zu den Prozessergebnissen, was schnellere Zykluszeiten und verbesserte Erträge ermöglicht. Dieser Reaktor ist auch auf Langzeitstabilität und Wiederholbarkeit von Prozessparametern für Produktion und Technik ausgelegt. Insgesamt ist AMAT Endura 5500 ein hochentwickelter, zuverlässiger und einfach zu bedienender Plasmareaktor mit hoher Dichte für Wet Etching. Es wurde entwickelt, um eine verbesserte Prozesssteuerung, einheitliche Ätzmuster und verbesserte Produktausbeuten bereitzustellen. Es ermöglicht einfachere, schnellere und wiederholbare Prozesse und liefert Ingenieuren und Produktionspersonal wertvolles Feedback zu den Prozessergebnissen.
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