Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9258406 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reaktor ist eine fortschrittliche Abscheideanlage mit Einzelwaferverfahren für die Halbleiterverarbeitung. Der 5500 wurde entwickelt, um durch bewährte Prozess- und Automatisierungstechnologien den Durchsatz, die Ausbeute und die Funktionalität zu maximieren. Mit modernsten Steuerungssystemen und Gleichmäßigkeitswerten von konstant unter 0,2% ist der 5500 bestens geeignet, um die anspruchsvollsten Prozessanwendungen zu bewältigen, einschließlich der Bildung fortgeschrittener Verbindungen, Speicher und optoelektronischer Geräte. Die 5500 nutzungsinduktiv gekoppelten Plasmaquellen (ICP) liefern eine Quelle von energetischen Ionen und Radikalen, die Ionenimplantation, Abscheidung, Sputtern und Ätzprozesse innerhalb der Kammer erleichtern. Die ICP-Quellen sind mit umfassenden, bordeigenen Prozessleitsystemen gekoppelt, um eine präzise Kontrolle der Plasma- und Substratbedingungen zu ermöglichen. Der 5500 verfügt über ein automatisiertes Substratübertragungssystem, das eine genaue, wiederholbare und zuverlässige Waferbearbeitung ermöglicht. Darüber hinaus tragen eine Reihe von Kohlenwasserstofffallen und Pellitoren dazu bei, optimale Prozessbedingungen aufrechtzuerhalten und das Gerät vor Kontamination zu schützen. Die 5500 verfügt über bis zu zehn steuerbare Prozessgasleitungen zur Optimierung von Prozessparametern wie Ionenimplantation und Sputterabscheidungsraten. Die 5500 verfügt auch über mehrere Cassette-to-Cassette (C2C) -Stationen, so dass bis zu acht Source-Wafer-Lose gleichzeitig verarbeitet werden können. Dies ermöglicht einen hohen Durchsatz bei minimalem Abfall sowie die Möglichkeit, die Wafer-Losverarbeitung in Sekunden zu schalten. Die Maschine verfügt auch über ein integriertes reaktives Sputtermodul, das UED-Techniken (Ultraviolet Enhanced Deposition) verwendet, um vollständig selbstgebildete photonische Funktionen zu ermöglichen. Um die Gleichmäßigkeit zu gewährleisten, verwendet der 5500 branchenführende, proprietäre Algorithmen, um die Gleichmäßigkeit auf der gesamten Waferebene zu optimieren. Das Tool verfügt auch über ein integriertes Analyse-Tool, das eine beispiellose Einsicht in die Gleichmäßigkeit und die Prozessbedingungen im gesamten Wafer ermöglicht. Dieses Tool ermöglicht eine schnelle Prozessintegration und -optimierung mit verbesserten Durchlaufzeiten im Vergleich zu herkömmlichen Methoden. Der 5500 bietet außergewöhnlichen Durchsatz mit branchenführender Einheitlichkeit und Wiederholbarkeit, gepaart mit fortschrittlicher Prozesssteuerung und prozessfähigen Funktionen. Mit seiner Kombination aus Eigenschaften und Fähigkeiten bietet der 5500 eine hervorragende Lösung für kritische Abscheidungsprozesse, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden.