Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9274513 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9274513
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
PVD System, 8"
(4) Process chambers
(2) AL Chambers
(2) Ti/TiN Chambers
(2) Degas orientor chambers
Signal tower
System power supply
Control unit
CTI-CRYOGENICS Cryo-compressor
Cryo-pump
Main frame:
Load lock type: Narrow
Buffer robot type: HP+
Buffer robot blade
Transfer robot type: HP+
Transfer robot blade
Components:
System controller
Generator rack
Main AC
Cryo compressor
NESLAB Heat exchanger
Chamber A:
Process type: PASS
Chamber B:
Process type: COOL
Chamber E:
Process type: Orientor
Chamber F:
Process type: Orientor
Chamber 1:
Process type: Hot-AL
Chamber body: Standard
Source lid
Magnet: 0010-20225
Heater / Pedestal: A101 HTR
Shutter
Cryo / Turbo pump
Gate valve
MDX-L12 RF / DC Generator
Chamber 2:
Process type: TIN
Chamber body: Wide
Source lid
Magnet: 0010-20225
Heater / Pedestal
Cryo / Turbo pump
Gate valve
MDX-L12M RF / DC Generator
Chamber 3:
Process type: TIN
Chamber body: Wide
Source lid
Heater / Pedestal
Cryo / Turbo pump
Gate valve
MDX-L18M RF / DC Generator
Chamber 4:
Process type: Hot-AL
Chamber body: Standard
Souece lid
Magnet: 0010-20225
Heater / Pedestal: A101 HTR
Shutter
Cryo / Turbo pump
Gate valve
MDX-L6 RF / DC Generator
Missing parts:
Chamber 3:
Magnet
Massflow
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein Hochdurchsatz-Plasmaätzreaktor, der in der Halbleiterindustrie üblicherweise für kritische Prozesse wie Substratätzen eingesetzt wird. Der 5500 wurde entwickelt, um eine überlegene Prozesssteuerung mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit über den gesamten Substratbereich bereitzustellen. Die robuste Bauweise dieses Reaktors ermöglicht den Einsatz mehrerer Kammern mit unterschiedlichsten Prozessgasen, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. Es ist für den Betrieb in einem Druckbereich von bis zu 1 Torr (1,33 kPa) ohne Leckage ausgelegt und ist mit einem fortschrittlichen Quellleistungsanpassungsgerät ausgestattet, das eine unbegrenzte Plasmaanpassung ermöglicht und höchste Gleichmäßigkeit im gesamten Ätzbereich gewährleistet. AKT Endura 5500 wird durch seine automatisierte Steuerung angetrieben und maximiert den Durchsatz und die Produktivität bei anspruchsvollen Ätzanwendungen. Die Prozessüberwachungs- und Steuerungssysteme sind in der Lage, eine Vielzahl von Prozessparametern zu steuern, einschließlich Gaszufuhr, Druck, Durchfluss, Dotierstoff/Quellenabscheidung und Ätzgeschwindigkeit. Auch der Niederdruckbetrieb minimiert die Partikelerzeugung, verbessert die Prozessausbeuten und die Geräteeinheitlichkeit. AKT Endura-Einheit enthält auch eine fortschrittliche Co-Sputter und dritte Generation Lipping-Technologien, die hochpräzise Maskierung und Zielsteuerung bieten. Auf diese Weise können Sie die Profile von geätzten Schichten auf allen Arten von Materialien genau steuern. Dies gibt Anwendern die Möglichkeit, Ätzprofile präzise zu steuern, um sicherzustellen, dass die Merkmale kritischer Wafer einheitlich und gut definiert sind. AMAT ENDURA 5500 ist für hohe Prozesssicherheit konzipiert und bietet einen Vorteil in weniger Wartungseinheiten, was die Produktionslebensdauer optimiert. Es ist mit einer Fernwartung ausgestattet, die es dem Anwender ermöglicht, Wartungs- oder Kalibrierungsaufgaben durchzuführen, ohne den Prozess zu unterbrechen. Außerdem ist die Maschine mit einem mechanischen und Wärmebildwerkzeug ausgelegt, das hilft, versteckte Schäden zu erkennen, die mit bloßem Auge möglicherweise nicht sichtbar sind, und den Bediener alarmiert, wenn die Gefahr eines elektrischen Kurzschlusses besteht. Als fortschrittliches Ätzgerät ist ENDURA 5500 mit Blick auf die Sicherheit konzipiert. Das von SEMI S2 zertifizierte dreistufige Sicherheitsmodelldesign macht einen Not-Aus-Schalter überflüssig. Dadurch wird die Gefahr gefährlicher, unkontrollierter Druckverluste beseitigt. ANGEWANDTE MATERIALIEN ENDURA 5500 Ausrüstung von AMAT liefert ein leistungsfähiges Werkzeug für die Herstellung komplexer Bauteile, die Präzision und hohe Qualität erfordern (Ulta-High-K etch in der Halbleiterindustrie). Mit seinem robusten Design, seinen überlegenen Prozesskontrollfunktionen und Sicherheitssystemen ist dieser Plasmaätzreaktor eine leistungsstarke Produktionsanlage, die Ihnen dabei hilft, qualitativ hochwertigste Ergebnisse zu erzielen.
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