Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9274513 zu verkaufen

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ID: 9274513
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
PVD System, 8" (4) Process chambers (2) AL Chambers (2) Ti/TiN Chambers (2) Degas orientor chambers Signal tower System power supply Control unit CTI-CRYOGENICS Cryo-compressor Cryo-pump Main frame: Load lock type: Narrow Buffer robot type: HP+ Buffer robot blade Transfer robot type: HP+ Transfer robot blade Components: System controller Generator rack Main AC Cryo compressor NESLAB Heat exchanger Chamber A: Process type: PASS Chamber B: Process type: COOL Chamber E: Process type: Orientor Chamber F: Process type: Orientor Chamber 1: Process type: Hot-AL Chamber body: Standard Source lid Magnet: 0010-20225 Heater / Pedestal: A101 HTR Shutter Cryo / Turbo pump Gate valve MDX-L12 RF / DC Generator Chamber 2: Process type: TIN Chamber body: Wide Source lid Magnet: 0010-20225 Heater / Pedestal Cryo / Turbo pump Gate valve MDX-L12M RF / DC Generator Chamber 3: Process type: TIN Chamber body: Wide Source lid Heater / Pedestal Cryo / Turbo pump Gate valve MDX-L18M RF / DC Generator Chamber 4: Process type: Hot-AL Chamber body: Standard Souece lid Magnet: 0010-20225 Heater / Pedestal: A101 HTR Shutter Cryo / Turbo pump Gate valve MDX-L6 RF / DC Generator Missing parts: Chamber 3: Magnet Massflow 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein Hochdurchsatz-Plasmaätzreaktor, der in der Halbleiterindustrie üblicherweise für kritische Prozesse wie Substratätzen eingesetzt wird. Der 5500 wurde entwickelt, um eine überlegene Prozesssteuerung mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit über den gesamten Substratbereich bereitzustellen. Die robuste Bauweise dieses Reaktors ermöglicht den Einsatz mehrerer Kammern mit unterschiedlichsten Prozessgasen, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. Es ist für den Betrieb in einem Druckbereich von bis zu 1 Torr (1,33 kPa) ohne Leckage ausgelegt und ist mit einem fortschrittlichen Quellleistungsanpassungsgerät ausgestattet, das eine unbegrenzte Plasmaanpassung ermöglicht und höchste Gleichmäßigkeit im gesamten Ätzbereich gewährleistet. AKT Endura 5500 wird durch seine automatisierte Steuerung angetrieben und maximiert den Durchsatz und die Produktivität bei anspruchsvollen Ätzanwendungen. Die Prozessüberwachungs- und Steuerungssysteme sind in der Lage, eine Vielzahl von Prozessparametern zu steuern, einschließlich Gaszufuhr, Druck, Durchfluss, Dotierstoff/Quellenabscheidung und Ätzgeschwindigkeit. Auch der Niederdruckbetrieb minimiert die Partikelerzeugung, verbessert die Prozessausbeuten und die Geräteeinheitlichkeit. AKT Endura-Einheit enthält auch eine fortschrittliche Co-Sputter und dritte Generation Lipping-Technologien, die hochpräzise Maskierung und Zielsteuerung bieten. Auf diese Weise können Sie die Profile von geätzten Schichten auf allen Arten von Materialien genau steuern. Dies gibt Anwendern die Möglichkeit, Ätzprofile präzise zu steuern, um sicherzustellen, dass die Merkmale kritischer Wafer einheitlich und gut definiert sind. AMAT ENDURA 5500 ist für hohe Prozesssicherheit konzipiert und bietet einen Vorteil in weniger Wartungseinheiten, was die Produktionslebensdauer optimiert. Es ist mit einer Fernwartung ausgestattet, die es dem Anwender ermöglicht, Wartungs- oder Kalibrierungsaufgaben durchzuführen, ohne den Prozess zu unterbrechen. Außerdem ist die Maschine mit einem mechanischen und Wärmebildwerkzeug ausgelegt, das hilft, versteckte Schäden zu erkennen, die mit bloßem Auge möglicherweise nicht sichtbar sind, und den Bediener alarmiert, wenn die Gefahr eines elektrischen Kurzschlusses besteht. Als fortschrittliches Ätzgerät ist ENDURA 5500 mit Blick auf die Sicherheit konzipiert. Das von SEMI S2 zertifizierte dreistufige Sicherheitsmodelldesign macht einen Not-Aus-Schalter überflüssig. Dadurch wird die Gefahr gefährlicher, unkontrollierter Druckverluste beseitigt. ANGEWANDTE MATERIALIEN ENDURA 5500 Ausrüstung von AMAT liefert ein leistungsfähiges Werkzeug für die Herstellung komplexer Bauteile, die Präzision und hohe Qualität erfordern (Ulta-High-K etch in der Halbleiterindustrie). Mit seinem robusten Design, seinen überlegenen Prozesskontrollfunktionen und Sicherheitssystemen ist dieser Plasmaätzreaktor eine leistungsstarke Produktionsanlage, die Ihnen dabei hilft, qualitativ hochwertigste Ergebnisse zu erzielen.
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