Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9304004 zu verkaufen
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ID: 9304004
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1997
System, 6"
MF Facilities: Rear
Heat exchanger: NESLAB I
Buffer robot type: HP
Transfer robot type: HP
Hard Disk Drive (HDD): SCSI
Buff robot blade: Ceramic
Wafer sensor: Mini beam
Loadlock type: Narrow body without tilt out
Transfer robot blade: Metal
Signal tower: 3 Color
System umbilicals: 25 ft
EMO
No GEM
No OTF
Controller
Generator rack
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Compressors
CTI-CRYOGENICS Motor controller: 3 Phase
EBARA A07V Pump
Main AC box
Transformer: 200 VAC,3 Phase, 50/60 Hz
MF Enclousure cover installed
MF Gas box
Laser assy
OB- 8F Cryo pump: Enhanced type
Process lift: Motorize type
SBC BD Type: V452
Buffer / Transfer: VHP Conversion possible type
MF Facility box
UPS: Interface type
Chamber A:
Type: PC-II
ADVANCED ENERGY LF10A RF Generator
COMDEL CPS1001S RF Generator
Gas valves: Nupro
Manometer: 100m Torr
LEYBOLD Turbovac 361C Pump
Lid: Resonator
Match box, 6"
LEYBOLD Turbotronic 150 / 360 Turbo controller
EBARA A07V Pump
Gasses:
LEYBOLD Turbo pump
MFC Size / Gas name / MFC Type
300 / Ar / Stec 4400
20 / Ar / Stec 4400
Chamber B:
Type: Cool down
Gas valves: Nupro
Heater / Cathode cooling: PCW
Lid modified to Quartz lid
Chamber 1:
Process: TTN
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-L12-650 DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Ion gauge: Nude type
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Chamber 2:
Process: AL
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-L12M Power supply
ADVANCED ENERGY MDX-L12 Power supply
Susceptor / Pedestal: 4F
Heater / Cathode cooling: NESLAB I
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
MKS Residual gas analyzer installed
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Gas stick configuration
Gas 1 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / Standard
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / Standard
Chamber 3:
Process: Ti
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-10K DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Chamber 4:
Process: TTN
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-650 HiZ DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 20 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Missing parts for chamber 1:
Drive: 2 Phase
Motor
Gear box
Gear box mount
Belt
Slot / Top rack boards:
1 / SBC Board
2 / Videl board
3 / OMS Board
4 / DI/O Board
5 / DI/O Board
6 / DI/O Board
7 / DI/O Board
8 / DI/O Board
9 / DI/O Board
10 / SEI Board
11 / No 486C
12 / No seriplex
13 / No DI/O board
14 / No AO board
15 / Stepper board
16 / No spare
17 / No spare
18 / Stepper board
19 / AI Board
20 / AO Board
21 / AO Board
22 / Hard Disk Drive (HDD)
23 / No grounding JAC
24 / Convectron board
25 / Convectron board
26 / Convectron board
27 / Convectron board
28 / No TC
29 / No TC
30 / ION Gauge board
31 / ION Gauge board
32 / No spare
33 / DI/O Board
34 / DI/O Board
35 / DI/O Board
36 / DI/O Board
37 / DI/O Board
38 / No DI/O board
39 / No DI/O board
40 / Floppy Disk Drive (FDD)
41 / No spare
42 / Cryo temp
43 / AI Mux
44 / AI Mux
45 / No AI Mux
46 / No spare
47 / Opto detect board
48 / Opto detect board
49 / Opto detect board
50 / No spare
UPS: 200 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz, 350 A
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein hochdurchsatzreicher, voll ausgestatteter Epitaxiereaktor für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. AKT Endura 5500 verfügt über einen vollautomatischen Lader/Entlader und mehrere Prozesskammern, die eine schnelle Prozesseinrichtung und optimierte Prozessgleichförmigkeit ermöglichen. AMAT ENDURA 5500 wurde entwickelt, um einen hohen Durchsatz für Epitaxiewafer mit kleinem und großem Durchmesser zu bieten. AMAT Endura 5500 unterstützt eine Vielzahl von Prozesschemikalien, einschließlich chemischer Dampfabscheidung (CVD) und Molekularstrahlepitaxie (MBE), für das Wachstum verschiedener Materialien aus Silizium, Silizium-Germanium, kohlenstoffdotiertem Silizium und anderen Verbindungen. Diese Flexibilität ermöglicht die Herstellung einer Vielzahl von Produkten, darunter herkömmliche Logikgeräte, MEMS (mikroelektromechanische Systeme), erweiterte Logik und optoelektronische Komponenten. Das System verfügt über eine einzigartige Fernbedienung aus einer Hand, die die Prozesseinrichtung vereinfacht und eine vollständige Fernüberwachung von bis zu drei Systemen von APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 ermöglicht. Dazu gehört auch der Zugriff in Echtzeit auf mehrere Prozessparameter wie Temperatur, Wachstumsrate und Prozessdruck sowie die direkte Abwicklung der Prozesskammer durch den Anwender. Diese Daten sind von unschätzbarem Wert, um Prozessprobleme schnell zu finden und zu beheben. ENDURA 5500 bietet eine Vielzahl von Prozesskammerkonfigurationen, beschränkten Flößen und Kastengrößen, die ein schnelles, effizientes Wafer-Cycling und eine Großserienproduktion ermöglichen. Die eingeschränkten Flöße verfügen über eine verbesserte Gleichmäßigkeitskontrolle, so dass Wafer terrassenförmig ausgelegt werden können, um eine konsistente thermische Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Mit einem hochintegrierten Kamerasystem ist eine automatische Waferausrichtung mit vier, sechs, acht und zwölf Zoll-Wafern möglich und gewährleistet eine konsistente und präzise Wafer-Handhabung und -Verarbeitung. APPLIKATIONSMATERIALIEN Endura 5500 verfügt zudem über ein komplett automatisiertes Wafer-Handling-Modul, das zeitaufwendige manuelle Wafer-Handhabung und -Beladung eliminiert. Dazu gehört das Signatur-rotierende Kassettenübertragungssystem des Endura 5500, das ein kontinuierliches automatisiertes Be- und Entladen von bis zu zehn Waferkassetten für eine ununterbrochene Produktion ermöglicht. Insgesamt ist AKT ENDURA 5500 ein führender, voll ausgestatteter Epitaxiereaktor, der für eine schnelle, serienmäßige Waferproduktion entwickelt wurde. Das Gerät ist mit der neuesten Prozesskammerleistung und automatisierter Waferbeladung sowie Fernüberwachung und optimierter Einheitlichkeitskontrolle ausgestattet, die alle eine konsistente und zuverlässige Produktion gewährleisten.
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