Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9363651 zu verkaufen

AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein fortschrittlicher Nassreinigungsreaktor für die anspruchsvollsten Halbleiteranwendungen. Dieser innovative Reaktor wurde entwickelt, um eine schnelle und effiziente Nassreinigung mit überlegener Oberflächengüte und überlegener Prozesskontrolle zu liefern. Es verfügt über einen fortschrittlichen Plasmagenerator, eine leistungsstarke UV-VIS-Lichtquelle und eine kompakte Reaktorkammer. AKT Endura 5500 ist ideal für die vollflächige und begrenzte Flächenreinigung von Wafern und anderen Substraten. Es verwendet einen proprietären, patentierten Plasmagenerator, um eine fein abgestimmte Atmosphäre für eine optimale Nassreinigungsleistung zu schaffen. Der Generator enthält sowohl Ar/H2 Plasmaproduktionsmodule als auch UV-VIS-Lichtquellenmodule, die unabhängig voneinander eingestellt werden können, um präzise abgestimmte Plasma- und Lichtkombinationen zu erzeugen. Dies ermöglicht eine flexible Reinigungskonfiguration auf verschiedenen Substraten. Die Reaktionskammer von AMAT ENDURA 5500 soll eine maximale Isolierung von Prozessgasen und Verunreinigungen ermöglichen. Die fortschrittliche Luftströmungsausrüstung und die enge Integration in den Plasmagenerator sorgen für einen schonenden und gleichmäßigen Fluss der Reinigungslösung auch bei Anwesenheit von Hochdruckgasströmen. Die Kammer verfügt auch über hocheffiziente Filter, um Partikelverunreinigungen aus dem Prozess und längere Lebensdauer der Kammer zu entfernen. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 ist auch mit Containment und Sicherheitsmerkmalen konzipiert. Es ist mit einem voll funktionsfähigen und integrierten Sicherheitssystem ausgestattet, das Prozessüberwachungsmodule, eine Steuereinheit und eine Touchscreen-Schnittstelle umfasst. Dadurch wird sichergestellt, dass die Maschine sicher und nach den vorgeschriebenen Verfahren betrieben wird. APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 ist ein zuverlässiges, effizientes und kostengünstiges Nassreinigungswerkzeug, das den höchsten Erwartungen der Wafer-verarbeitenden Kunden gerecht wird. Es kombiniert reine Plasmatechnologie mit der nachgewiesenen Wirksamkeit der Nassreinigung, um eine überlegene Prozesssteuerung und Oberflächengüte zu liefern. Mit seinen fortschrittlichen Technologien ist es ideal für Hochleistungs- und Präzisionsanwendungen in der Halbleiterherstellung sowie in der Forschung und Entwicklung zur Herstellung von Wafern.