Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #293829676 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL ist ein vielseitiger, vielseitiger Co-Sputter physikalischer Dampfabscheidung (PVD) Reaktor. Diese Ausrüstung kann eine Vielzahl von Aufgaben erfüllen, wie Ätzen, Abscheiden und Polieren von Metall, dielektrischen und halbleitenden Materialien, die bei der Herstellung moderner integrierter Schaltungen verwendet werden. AMAT Endura CL Reaktor ist hocheffizient und kann schnell hochwertige Beschichtungsschichten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Haftung herstellen. Dieser Reaktor ist für maximale Prozessflexibilität ausgelegt, da er mehrere Varianten für die Abscheidung von Materialien in Schichten von so dünn wie 20 Angström aufweist und somit ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen geeignet ist. Die wichtigsten Prozesskomponenten von APPLIED MATERIALS Endura CL Reaktor umfassen eine HF-Quelle, HF-Stromversorgung, elektromagnetische Quelle und Stromversorgung. Die HF-Quelle ist ein Hochfrequenzgenerator zur Erzeugung eines Hochfrequenzplasmas. Die HF-Stromversorgung dient zur Steuerung der Leistungsstufen der HF-Quelle und ermöglicht eine präzise Steuerung des Plasmas. Die elektromagnetische Quelle dient zur Erzeugung eines gleichmäßigen elektrischen Feldes in der Plasmakammer und wird von der Stromversorgung gespeist. Endura CL-Reaktor weist auch eine Vakuumkammer auf, die in der Lage ist, während des Abscheideprozesses eine Niederdruckumgebung innerhalb der Kammer aufrechtzuerhalten. Die Vakuumkammer ist außerdem mit einer Turbomolekularpumpe und einer Getterpumpe ausgestattet, um saubere, trockene Bedingungen in der Kammer während des Sputtervorgangs aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus ist die Kammer mit einer Inertgasquelle verbunden, wodurch das Einleiten eines Inertgases in die Kammer zur Gewährleistung von Gleichmäßigkeit und Stabilität des Plasmas während des Abscheidungsprozesses ermöglicht wird. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL Reaktor ist in der Lage, außergewöhnliche Materialeigenschaften Kontrolle und verbesserte Abscheidungsraten zu bieten. Das System verfügt auch über verschiedene Empfindlichkeitseinstellungen, die eine genaue und wiederholbare Abscheidung von gleichmäßigen und nah netzförmigen Beschichtungen ermöglichen. Darüber hinaus sind die Prozessparameter des Geräts vollständig einstellbar und ermöglichen Flexibilität für unterschiedliche Folienanforderungen. Weitere Merkmale von AMAT Endura CL sind ein multiples Zieldesign, das Hochgeschwindigkeitsabscheidungsraten unterstützt, und ein keramikbasiertes, nicht kontaminierendes Co-Sputterverfahren. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Endura CL eine effiziente und zuverlässige Sputter-PVD-Reaktormaschine. Es eignet sich für ein breites Anwendungsspektrum von der Herstellung von Feldemissionsdisplays bis hin zu Halbleiterspeicherbauelementen. Endura CL ist mit seiner benutzerfreundlichen Bedienung und exzellenten Prozesssteuerung eine ideale Lösung für alle anspruchsvollen PVD-Prozessanforderungen.