Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9276760 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL
ID: 9276760
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
PVD System, 12" (3) Chambers Chamber 1: Ti Chamber 2: Al Chamber 3: AL 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL ist ein Reaktor, der es Prozessingenieuren ermöglicht, die chemische Dampfabscheidung (CVD) von Wolfram in einer Vielzahl von Dünnschichtanwendungen durchzuführen. Dieser Reaktor der nächsten Generation eignet sich für die Halbleiterindustrie und ist in der Lage, Wolfram und andere Metallschichten zur Abscheidung von Dünnschicht-Halbleiterbauelementen zu verarbeiten. AMAT Endura CL Reaktor bietet hochpräzise, konsistente Tan-to-Tan Gleichmäßigkeit auf fortgeschrittenem Niveau. Dieser Reaktor ist so konzipiert, dass er hochzuverlässige und wiederholbare CVD-Prozesse mit niedriger Keilvariation am Ende liefert. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die integrierte Steuerungsausrüstung von Endura CL bietet eine überlegene Einheitlichkeitskontrolle und eine vollständige Prozesskontrolle auf Waferebene. Außerdem ermöglicht die Verwendung höherer Filamentkapazitäten und die On-the-Fly-Kontrolle von oben nach unten eine schnellere Werkzeugwiederherstellung. Darüber hinaus verfügt der Endura CL-Reaktor über erweiterte Wafer-Lade- und Multi-Wafer-Entladefunktionen, die es Prozessingenieuren ermöglichen, den Durchsatz zu maximieren und den Platzbedarf zu minimieren. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL ist mit der fortschrittlichsten Automatisierungstechnologie kombiniert, die verschiedene Optionen wie automatische Reinigung, Auto-in-Process-Waferaustausch und automatische Pulverladung bietet. AMAT Endura CL verfügt auch über Funktionserweiterungen wie Mittelprozess-Abgaswäscher, mehr Arbeitsraum und mehr. Das System nutzt auch fortschrittliche Automatisierung für genaue Abscheidung und Prozesskontrolle. Zu den Merkmalen gehören eine integrierte, automatische Temperatursteuereinheit, die präzise und reproduzierbare Leistung gewährleistet; eine integrierte Gas Flow Balance Control Machine zur präzisen und wiederholbaren Gaslieferung; und ein Ablagerungssteuerungswerkzeug zur verbesserten Präzisionssteuerung und Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus bietet APPLIED MATERIALS Endura CL eine verbesserte Produktivität und Zuverlässigkeit mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen. Der Reaktor ist mit einem Notabschalter ausgestattet, der eine sofortige Abschaltung des Modells ermöglicht, wenn der Bediener es benötigt. Das Gerät verfügt außerdem über eine automatische Gasabschaltfunktion, um manuelle Gasventileinstellungen während des Betriebs zu vermeiden. Endura CL Reaktor ist eine ideale Wahl für Halbleiterhersteller, die hochpräzise, konsistente Wolfram-CVD-Prozesse benötigen und nach erhöhtem Durchsatz und Wirtschaftlichkeit suchen. Der Reaktor verfügt über eine Reihe von Funktionen, die eine zuverlässige, wiederholbare Leistung bei minimalen Ausfallzeiten ermöglichen und gleichzeitig Wafer mit hoher Gleichmäßigkeit verarbeiten.
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