Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9293628 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL Reactor ist eine kontinuierliche Gasphasenabscheidungsanlage für die Niedertemperatur-Atomschichtabscheidung (ALD) auf Metall, Dielektrikum und Halbleitermaterialien. Dieses System ermöglicht die Abscheidung von Oxid, Nitrid, Sulfid und anderen Dünnschichtmaterialien für verschiedene Entwicklungsanforderungen, wie Präzisionsfolien für mikroelektromechanische Systeme (MEMS) und fortgeschrittene optische Komponenten. AMAT Endura CL Reactor hat einen modularen Aufbau und ist mit überlegenen Materialien für langfristige Haltbarkeit gebaut. Es ist mit einer doppelten Abscheidungsquelle ausgestattet, die einen gleichzeitigen Betrieb von zwei separaten Folien ermöglicht, was den Zeitaufwand für eine einzige Abscheidung im Vergleich zu herkömmlichen Single-Source-Systemen reduziert. Diese Einheit verwendet auch fortschrittliche Filmabscheidungstechnologien wie sequentielle ALD und Co-Deposition. Das sequentielle ALD-Verfahren ermöglicht Schicht-für-Schicht-Filmwachstum, das gleichmäßige, konforme und hochregulierte Dickenfolien erzeugt. Durch das Co-Deposition-Verfahren können zwei Materialien für kontrollierte und präzise Filmeigenschaften gemeinsam abgeschieden werden. Der Reaktor umfasst eine automatisierte Probenlademaschine mit einem hocheffizienten Gaskrümmer, der verschiedene Gase und Vorläufer abgeben kann. Es bietet auch eine präzise Temperatur- und Durchflussregelung sowie eine gepulste reaktive Gaseinspritzung und einen zeitgesteuerten Chargengasstrom, die eine perfekte Kontrolle der ALD-Parameter ermöglichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura CL umfasst eine Workstation mit einer hellen grafischen Benutzeroberfläche zur komfortablen Überwachung und Steuerung von Abscheideprozessen. Es ist mit einer Datenlogging-Funktion ausgestattet, die jeden Schritt aufzeichnet und für automatisierte Rezeptschritte programmiert ist. Dieses Tool enthält auch eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen wie Übertemperaturwarnung, Durchflusswarnung und Sicherheitsventil. Insgesamt liefert Endura CL Reactor präzise und wiederholbare Dünnschichtabscheidungslösungen für verschiedene Entwicklungsanforderungen. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und die hocheffiziente Gaslieferung machen es ideal für Niedertemperatur-ALD aus Metall, Dielektrikum und Halbleitermaterialien. Diese zuverlässige und benutzerfreundliche Ausstattung bietet eine hervorragende Folienqualität und eignet sich somit perfekt für eine präzise und gleichmäßige Dünnschichtabscheidung auf einer Vielzahl von Substraten.