Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 #293822305 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP 5500
ID: 293822305
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2019
PVD System, 6" Dual loadloack Dual transfer chamber & dual on-board 8F cryopumps Orienter / degas module Preclean chamber & LEYBOLD TMP361C Turbopump Chamber 2: PVD sputter chamber On-board 8F cryopump Chamber 3: Wide body PVD sputter chamber On-board 8F cryopump Control cabinet Generator rack (2) Advanced energy pinnacle RF generators (2) CTI-CRYOGENICS 9600 Helium compressors Motor controller EDWARDS iXL 1000 Vacuum pump EDWARDS iXL120 vacuum pump THERMO FISHER Recirculating chiller COMDEL CDX-2000 dual RF generator Power cabinet Voltage: 208V Frequency: 60Hz RPM: 3ph Currency: 150kVA 2019 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 ist ein hochmoderner CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der speziell für die großvolumige Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Dieser Reaktor ist ein kritisches Werkzeug, das in Halbleiterherstellungsanlagen zum Abscheiden von dünnen Schichten verschiedener Materialien auf Siliziumscheiben verwendet wird, ein wichtiger Schritt bei der Herstellung integrierter Schaltungen. Eines der Hauptmerkmale des AMAT Endura HP 5500 ist seine hohe Durchsatzfähigkeit, die eine effiziente Verarbeitung großer Wafermengen in kurzer Zeit ermöglicht. Dies wird durch eine Kombination aus fortschrittlichen Automatisierungssystemen, optimierter Gasflusssteuerung und verbesserten Wafer-Handhabungsmechanismen erreicht. Der Reaktor wurde entwickelt, um Ausfallzeiten zu minimieren und die Produktivität zu maximieren, was ihn zu einer idealen Wahl für hochvolumige Halbleiterherstellungseinrichtungen macht. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura HP 5500 ist mit mehreren Prozesskammern ausgestattet, die jeweils unterschiedliche Abscheideprozesse gleichzeitig durchführen können. Dies ermöglicht eine erhöhte Flexibilität und Effizienz in Fertigungsprozessen, da verschiedene Dünnschichttypen parallel auf Wafern abgeschieden werden können. Der Reaktor ist auch mit fortschrittlichen Temperaturregelungssystemen ausgestattet, um eine präzise und gleichmäßige Erwärmung der Wafer während des Abscheidungsprozesses zu gewährleisten, was zu einem hochwertigen Filmwachstum und einer verbesserten Geräteleistung führt. Der Reaktor ist für die Handhabung einer Vielzahl von Materialien ausgelegt, darunter dielektrische Filme, Metallfolien und Verbundhalbleiter. Diese Vielseitigkeit macht Endura HP 5500 für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterherstellung geeignet, von Speicherchips über Logikbauelemente bis hin zu Leistungsbauelementen. Der Reaktor ist auch in der Lage, Folien mit unterschiedlichen Dicken und Eigenschaften abzuscheiden, so dass die Hersteller das Verfahren an ihre spezifischen Geräteanforderungen anpassen können. In Bezug auf die Prozesssteuerung verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 über fortschrittliche Überwachungs- und Steuerungssysteme, um präzise und reproduzierbare Abscheidungsergebnisse zu gewährleisten. Der Reaktor ist mit Echtzeit-Messtechnik-Werkzeugen ausgestattet, mit denen Bediener Filmdicke, Zusammensetzung und Gleichmäßigkeit während des Abscheidungsprozesses überwachen können. Diese Rückkopplungsschleife ermöglicht Prozessoptimierung und -steuerung, was zu einer verbesserten Folienqualität und -ausbeute führt. Der AMAT Endura HP 5500 ist auch mit Blick auf Nachhaltigkeit konzipiert und bietet energieeffiziente Komponenten und Prozesse zur Minimierung der Umweltbelastung. Der Reaktor ist mit Abgasminderungssystemen ausgestattet, um die Emissionen schädlicher Nebenprodukte zu reduzieren, sowie effiziente Gasfördersysteme, um den Gasverbrauch zu minimieren. Diese Nachhaltigkeitsmerkmale machen APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 eine bevorzugte Wahl für Halbleiterhersteller, die ihren CO2-Fußabdruck reduzieren und Umweltvorschriften einhalten möchten. Insgesamt ist Endura HP 5500 ein hochmoderner CVD-Reaktor, der hohen Durchsatz, Flexibilität und Präzision für die Herstellung von hochvolumigen Halbleitern bietet. Das fortschrittliche Design, die Prozesssteuerungsfunktionen und die Nachhaltigkeitsfunktionen machen es zu einem wertvollen Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation mit verbesserter Leistung und Zuverlässigkeit.
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