Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP #293817409 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP ist ein häufig verwendeter Hochvakuum-Prozessreaktor, der für die physikalische und chemische Dampfabscheidung durch einen fortschrittlichen Heizprozess entwickelt wurde. Es wird in der Halbleiterherstellung als Dotierungsquelle für Metallisierungsschichten eingesetzt. AMAT Endura HP enthält eine Reaktionskammer mit einer beheizbaren Substratplatte, die eine Temperatur gleichmäßig innerhalb ± 5 ° C des Sollwertes hält, und eine keramische Auskleidung, die die Gleichmäßigkeit des Abscheidungsprozesses gewährleistet. Die keramische Auskleidung wurde mit einer einzigartigen Wolfram-Diffusionsbeschichtung entwickelt, um das Risiko einer chemischen Kontamination deutlich zu reduzieren. Zur Optimierung der Abscheideraten und Fähigkeiten verwendet APPLIED MATERIALS Endura HP eine computergesteuerte Gasmischanlage, die eine präzise und wiederholbare Systemsteuerung gewährleistet. Endura HP enthält eine erweiterte HF-Leistungseinheit, die eine maximale Kontrolle der Abscheiderate und des Brechungsindex ermöglicht. Es wurde entwickelt, um Anwendungen wie Dünnfilm-dielektrische Beschichtung, Filmabscheidung und Ätzen und Atomschichtabscheidung (ALD) zu unterstützen. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP ist in der Lage, den Einsatz von bis zu vier Gasen für Abscheidungsprozesse innerhalb seines Reaktors zu unterstützen. Die Gasmischmaschine ist mit Massendurchflussreglern ausgestattet, um das genaue Volumen der für verschiedene Beschichtungsprozesse benötigten Gase abzustimmen und zu erkennen. Das genaue Volumen und die Geschwindigkeit der Gase innerhalb der Reaktionskammer kann mit dem eingebauten Druckmessgerät des Geräts leicht überwacht werden. AMAT Endura HP verfügt auch über eine maßgeschneiderte, hochauflösende Elektronenstrahlquelle innerhalb der Reaktionskammer für direktes Ionensputtern für zusätzliche Prozessoptionen. Diese Elektronenstrahlquelle ermöglicht eine Hochgeschwindigkeitsproduktion mit Abscheideraten von bis zu 4 nm/s und liefert gleichmäßige Ergebnisse über die gesamte Waferoberfläche. Die Konstruktion des Geräts ermöglicht auch eine ultrastabile Temperaturregelung mit der Fähigkeit, eine optimale Temperatur von bis zu 1000 ° C zu erreichen. Aufgrund seiner automatisierten Eigenschaften und Multi-Gas-Fähigkeiten ist APPLIED MATERIALS Endura HP in der Lage, die strengen Anforderungen der Halbleiterherstellung zu erfüllen. Endura HP ist ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug, das Metall-, dielektrische und Halbleiterschichtabscheidung in vielen fortgeschrittenen Halbleiteranwendungen unterstützen kann. Seine hochpräzise Temperaturregelung, mehrere Gasmischfähigkeiten und ausgeklügelte Elektronenstrahlquellen bringen präzise Prozesskontrolle, die Forscher für die Entwicklung revolutionärer Technologien benötigen.
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