Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293587288 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II
ID: 293587288
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2014
Sputtering system, 12" Main body: Endura CL (2) Chambers 2014 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ist ein vollautomatisierter, vertikaler Rohr-, Einzelwafer-Ätz-/Reinreaktor für Präzisionsätzen und Reinigung von Halbleiterscheiben. Das Gerät ist für den Einsatz bei der Herstellung moderner integrierter Halbleiterschaltungen und anderer verwandter Komponenten konzipiert. AKT Endura II besteht aus einem zentralen Reglermodul und einer Reihe von Hilfskomponenten wie Gaskasten, Verteiler, Transfermodul und Abgasgebläse. Das System ist in der Lage, verschiedene Arten von Substratmaterialien wie Silizium, Glas, Metall und Kunststoff zu verarbeiten. Es ist mit integrierten Prozesssteuerungs-, Überwachungs- und Datenerfassungssystemen ausgestattet. Der Reaktor weist eine vertikale Rohrkonstruktion auf, so dass das Werkstück in vertikaler Ausrichtung bearbeitet werden kann, um die Gravitationsbelastung zu minimieren. Die Einheit nutzt eine offene Prozesskammerkonstruktion mit einem außerhalb der Prozesskammer angeordneten Gaskasten, Verteiler und Transfermodul. Diese Konstruktion gewährleistet Flexibilität für verschiedene Gasmischungen, um Ätzparameter für verschiedene Anwendungen zu optimieren. Die Maschine kann sowohl planare als auch nicht planare Wafer mit gleichmäßigen Ätzergebnissen verarbeiten. Das Werkzeug unterstützt die Verwendung einer breiten Palette von Ätzgasen und Chemikalien, einschließlich SF6 (Schwefelhexafluorid), CF4 (Tetrafluormethan) und Cl2 (Chlor). Das Asset verfügt zudem über ein automatisiertes zentralisiertes Wafer-Transfer-Modell, das Wiederholbarkeit und Konsistenz bei der Wafer-Handhabung gewährleistet und die Kontaminationschancen minimiert. Es verfügt über ein integriertes Abgasgebläse, um konstante Prozessdrücke, Versorgungsvolumina aufrechtzuerhalten und luftgetragene Partikel zu eliminieren. Die integrierte thermische Steuerung sorgt für eine gleichmäßige Wafertemperatur und optimiert für unterschiedliche Waferätzparameter. Das integrierte Prozessmonitor- und Datenerfassungssystem zeichnet kontinuierlich die Ergebnisse von Ätz- und sauberen Prozessen auf und ermöglicht eine Echtzeitoptimierung von Ätz- und Reinigungsprozessen, um hohe Produkterträge zu erhalten. Das Gerät ist in der Lage, eine Reihe von optionalen peripheren Komponenten, wie Spin-Spülgeräte, und Massenstrom-und Drucksensoren unterzubringen. AMAT Endura II ist für flexible und präzise Halbleiterätz- und saubere Anwendungen konzipiert und eignet sich somit ideal für die Herstellung moderner Halbleiter-ICs und anderer verwandter Komponenten. Die Kombination aus vertikalem Rohrdesign, automatisiertem zentralisiertem Übertragungswerkzeug und Echtzeit-Datenerfassung und Prozessmonitor machen die Maschine zu einem effizienten und zuverlässigen Werkzeug für die Ätz- und sauberen Anforderungen von Halbleiterherstellern.
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