Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293593136 zu verkaufen

ID: 293593136
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
PVD System, 12" Process: Copper Factory interface PRI AC Box SEC AC Box (3) RF Generator racks DI Water cooler (2) Cryo compressors Process chamber (1 / 4): Encore II Tan Process chamber (2 / 3): Encore II Cu Process chamber (C / D): RPC Process chamber (E / F): Degas (2) Electric distribution boxes N2 Gun ALCATEL ADS1202H Loadlock pump ALCATEL ADS1202H Xfer pump ALCATEL ADS1202H Pump (Chamber C) ALCATEL ADS1202H Pump (Chamber D) EDWARDS iH1000 Pump (Chamber E) EDWARDS iH1000 Pump (Chamber F) Missing parts: Qty / Part number / Description (2) / 0242-81627 / NSO Kits, XP Robots with enhanced high temp wrists and shipping case (4) / 0010-29842 / Robot wrists CIP V2.3 (4) / 0200-06355 / Blades, ceramic open pocket conductive (ACB Blades) (1) / 0190-25290 / LM Darp edge grip end effector KI (FI Robot blade) (4) / 0190-41393 / NSK Drivers, 2-axis servo, 110 VAC F47 (1) / 0090-01629 / Assembly, transfer interlock with pos 5, 300mm (1) / 0090-00353 / MF Buffer interlock PCB (1) / 0190-24115 / PCB, CDN391R, D-I/O, 300 mm Endura  (2) / 0190-32372 / PCB, CDN396R, A-I/O, 300 mm Endura (1) / 0190-05682 / PVD Dual chamber degas 208 V heater driver (Degas heat driver) (1) / 0190-26701 / 0190-43081 / PVD 208 V Dual swill lamp degas driver (Degas lamp driver) (1) / 0190-54040 / 0190-64793 / On-Board IS Controller (IS2000V Compatible) remote / Pump right mount (IS Controller) (2) / 0190-54044 / 0190-64799 / Cryo compressors, 208 VAC Mit-ready 300 mm Endura II (6) / - / Process chambers (2) / - / RF Generator racks (1) / - / Xfer Pump (1) / - / Load lock pump (4) / - / Chamber pumps (C,D,E,F) (1) / - / DI Water cooler (2) / - / Cryo compressors (1) / - / FI Robot (1) / - / FI Robot driver (1) / - / XP Robot driver (3) / 0190-41014 / LP PCBs (2) / - / LP EV Modules 2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ist ein fortschrittlicher thermischer CVD-Reaktor, der speziell für das Wachstum einer breiten Palette fortschrittlicher Materialien entwickelt wurde. Der Reaktor ist in der Lage, Prozesse wie Epi, MOCVD, Metall-Legierung CVD und mehr durchzuführen. Implementiert mit Funktionen wie automatisierten Massendurchflussreglern und thermischen Prozessmodulen ermöglicht dieser Reaktor eine erweiterte Kontrolle über Wachstumsparameter. Diese leistungsstarke thermische CVD-Kammer besteht aus Edelstahl und anderen korrosionsbeständigen Materialien für erhöhte Haltbarkeit und langfristigen Einsatz. Der Reaktor ist mit einem Quarzboot mit 25 cm Durchmesser ausgestattet, mit dem Benutzer die Wachstumsfläche maximieren können. Eine Kammerhöhe von 14 „in Kombination mit einem 8“ -Waferoffset machen diesen Reaktor zu einer optimalen Wahl für fortgeschrittene Abscheideprozesse. Der AKT Endura II Reaktor umfasst auch einen kompletten Satz automatisierter Steuerungen, einschließlich eines PC-gesteuerten Prozessreglers, eines erweiterten 2D/3D-Mustergenerators und anderer verwandter Komponenten. Diese Funktion sorgt für eine genaue und präzise Kontrolle des chemischen Wachstumsprozesses. Die Kammer enthält auch ein eingebautes Vakuumgebläse, das die Prozessflexibilität verbessern soll. AMAT Endura II Reaktor hat eine Belastungsrate von bis zu 10W/cm2 mit fortschrittlichen Steuerungstechniken wie geschlossene Schleife Temperaturregelung und Druckregelung. Der Reaktor kann sowohl mit inerten als auch mit reaktiven Gasen arbeiten. Darüber hinaus wurde Endura II entwickelt, um mit kundenspezifischen Filtersystemen zu arbeiten, die unerwünschte Verunreinigungen und Partikel beseitigen helfen. Dieses fortschrittliche CVD-Tool verfügt auch über hohen Gasfluss, hohe Gleichmäßigkeit und hohen Durchsatz, so dass Benutzer die anspruchsvollsten Anforderungen erfüllen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura II hat ein geschlossenes Design mit einem kleinen Platzbedarf, so dass es leicht in eine Produktionsumgebung passen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ein fortschrittlicher Reaktor mit den fortschrittlichen Fähigkeiten, die für fortschrittliche Abscheidungsprozesse erforderlich sind.
Es liegen noch keine Bewertungen vor