Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9090977 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9090977
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2013
Advanced low pressure source (ALPS) ESI chamber, 12"
Process: CO and Ni PVD deposition
High aspect ratio
Extendable for <90 nm technology node
Super low temp FDR E−Chuck
DI Cooler heat exchanger
(2) Cons kit: ALPS ESI with SLT FDR ESC/HSESC
Deposition rate: >400 A/min
RS Non-uniformity, within wafers: <4%; 1 sigma, 49 points, 3 mm edge exclusion
RS Non-uniformity, between wafers: <2%, 1 sigma, 25 wafers
Stress: <1e10 Dynes/cm²
Resistivity: <18 at 150A
Magnet P/N: 0415-24050
ESC P/N: 0415-23875
Di Cooler heat exchanger P/N: 0415-27326
Consumable kit P/N: 0415-29257
All cables are included
Process chamber options:
ALPS ESI
Super low temperature FDR E-chuck
Remote options:
System head exchanger:
Additional Di cooler heat exchanger
Additional options:
PVD Consumables:
Cons kit - ALPS ESI
With SLT FDR ESC / HSESC
(3) CV Chambers
Working hours: Processed ~200 wafers
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II Reaktor ist eine Hochleistungs-Plasmaätzanlage, die speziell auf die Anforderungen der Halbleiterbauelementherstellung zugeschnitten ist. Das System wurde entwickelt, um optimale Prozessleistung bei minimalen Ausfallzeiten und Betriebskosten zu gewährleisten. AKT Endura II verfügt über die revolutionäre Kombination aus einer Low-Diurnal-Quelle, einer Low-Thermal-Quelle und einem Hochtemperatur-Quellbereich, so dass das Gerät eine breite Palette von Ätzprozessen aufnehmen kann. Die Maschine ist auch mit einem speziellen Einwegventil für Komfort und Sicherheit ausgelegt, so dass Auspuff sicher über den Auspuffanschluss gelöst werden kann. AMAT Endura II Reaktor arbeitet mit fortschrittlicher, proprietärer ProTec™ Prozesssteuerungssoftware. Dies ermöglicht eine schnelle Einstellung der Prozessparameter. Es gibt dem Benutzer auch die Möglichkeit, Prozesse in Echtzeit zu überwachen, historische Metriken und Daten anzuzeigen und Parameter nach Bedarf für genauere Ätzergebnisse zu bearbeiten. Die ProTec Software ermöglicht es dem Anwender auch, die Prozesskonfiguration anzupassen, um ihren Ertrag zu optimieren. Das Werkzeug verwendet eine breite Palette von Ätzgasen, einschließlich Fluor und Chlor-basierte Chemie. Dies ermöglicht eine qualitativ hochwertige Ätzung mit hervorragenden Merkmalsformen, Selektivität, Gleichmäßigkeit und akzeptablen Profilen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura II verfügt auch über erweiterte Automatisierungsfunktionen und bietet Prozesssteuerungs-, Diagnose- und Rezepterzeugungsoptionen, um effiziente und wiederholbare Produktionsätzprozesse zu ermöglichen. Die Anlage umfasst außerdem ein integriertes In-situ-Gasliefermodell mit Doppelgassteuerung und sechs Gaseinlassstellen für erhöhte Prozessgasstabilität. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Gasmischung und eine gleichmäßige Geräteleistung für den gesamten Produktionsablauf. Darüber hinaus nutzt das Gerät einen speziell entwickelten prozessverstärkten Kapazität-Spannungs-Monitor, um die Substrattemperatur während des Ätzprozesses genau zu messen. Endura II Reaktor ist als zuverlässige und zuverlässige Prozessausführungsplattform konzipiert, die hohe Erträge und optimale Prozessleistung in hochvolumigen Ätzumgebungen gewährleistet. Dieses System ist eine attraktive Wahl für Halbleiterbauelementehersteller, die hervorragende Leistung, hohe Präzision und minimale Ausfallzeiten und Betriebskosten benötigen.
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