Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9161793 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II Reactor ist eine Vollfeld-Ionen-Implantationsanlage, die entwickelt wurde, um eine unübertroffene Leistung für die Mikroelektronik-Produktion zu liefern. AKT Endura II Reaktor bietet überlegene Leistung für Strained Layer SUPERLATTICE (SLS) Bauelemente und Low Voltage Junction Field Effect Transistor (LVJFET) Bauelemente. Diese Ausrüstung wurde entwickelt, um die höchste Ionenenergie und Fließfähigkeit Gleichmäßigkeit für die Abscheidung von Stickstoff und Arsen zu bieten. Die Kammer des AMAT Endura II Reaktors besteht aus einer Graphitkathode und einem Aluminiumanodensystem. Diese Kombination von Materialien verbessert die thermische Stabilität, bietet einen hohen Widerstand und minimiert das Sputtern. Die für die Ionenquelle verwendete Gasdiffusionseinheit dient der Beseitigung von Verunreinigungen durch andere Gase und bietet eine konsistente, homogene Gasquelle. Darüber hinaus ist die Kathodenheizmaschine zur Minimierung von Temperaturschwankungen ausgelegt, wodurch das Vorhandensein von niederenergetischen Elektronen für eine verbesserte Radikalisierung der Ionen gewährleistet ist. Für einen verbesserten Durchsatz und eine längere Ziellebensdauer verfügt der APPLIED MATERIALS Endura II Reactor über Hochtemperatur-Gitteroptiken, die Elektronen- und Partikelbildverzerrungen reduzieren und die Qualität des Plasma-Ionenstrahlprofils verbessern sollen. Es hat auch ein automatisiertes Gasschwankungswerkzeug mit einem Ausrichtungshals, um Ionenstrahl aufgrund von Änderungen der Filamentposition verschoben zu reduzieren. Diese Anlage wurde entwickelt, um eine gleichmäßige Strahlverteilung über das Ziel aufrechtzuerhalten und eine optimale Gleichmäßigkeit der Implantatflächendeckung zu ermöglichen. Endura II Reactor verfügt auch über eine hochauflösende Backscatter-Messtechnik im Modell, um die Dosierung genau zu berechnen und das Risiko eines Geräteausfalls zu verringern. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II Reactor verfügt auch über robuste Gerätesteuerungen und Überwachungssysteme, so dass Techniker die Implantationsparameter genau verfolgen und steuern können. Dazu gehören ein Bypass-System zur strengen Steuerung von Gasströmen sowie ein integriertes Hochspannungs-Steuermodul zur präzisen Steuerung der Beschleunigungsspannung und ein integriertes Scan-Steuermodul, das mit den In-Strsystemen zusammenarbeitet, um die Abtastgeschwindigkeit und Impulsstopps genau zu steuern. AKT Endura II Reactor ist eine fortschrittliche Ionenimplantationsanlage für die Hochleistungs-Mikroelektronik-Produktion. Diese Einheit verfügt über robuste Materialien und umfassende Maschinensteuerungen, um eine gleichmäßige Verteilung der Ionen über das Ziel sowie isolierte Gasdiffusionssysteme für konsistente Ionenstrahlprofile zu gewährleisten. Dies ermöglicht dem Werkzeug eine hervorragende Leistung für die Herstellung von SLS- und LVJFET-Geräten.