Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9198255 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9198255
Weinlese: 2009
PVD System
Process:
W(DC)
TiN(DC)
Si(RF)
Configuration:
Process tool:
FI
(3) Load ports
Endura main frame
Load lock A/B(LLA/LLB)
Degas chamber(CHE)
Versa Ti/TiN chamber (CH1)
Versa W/WN chamber (CH2)
RF PVD Si chamber (CH4)
Sub tools:
Primary AC box / Rack
Power rack:
Power supply
(3) Controllers
(2) Cryo compressors
Cooling chiller (Heat exchanger)
Dry pump (EBARA, 80WN x2, 20N x1)
Sub tools:
Qty / Make / Model / Part number / Description / CH
(6) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS 8F / / Cryopump / Buf/Tr/E/1/2/4
(2) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS-1000 / 0190-19395 / Cryocompressor / -
(2) / EBARA / ESR 80WN / / Drypump / System/LL
(1) / EBARA / ESR 20N / / Drypump / CHE
(1) / DAIKIN / - / 0190-25358 (Rev02) / Chiller / -
(1) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle / 0190-34646W / Power supply 20kW DC / CH1
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-26736101 / Power supply 10kW DC / CH2
(1) / ENI / GHW-12Z / 0190-25529W / Power supply / CH2
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-32405 / Power supply 5kW DC / CH4
(1) / COMDEL / CB3500 / 0190-38882 / Power supply 3500W RF / CH4
(1) / ASSEMBLY / HY-11 / 0010-25739 / Magnet 300MM DS-TTN / CH1
(1) / - / - / 0010-46871 / Magnet assy, 50M,LRW,300MM PVD / CH2
(1) / ASSEMBLY / Magnet / 0010-48649 / Magnet, 300MM, RF PVD / CH4
Parts list:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 3690-01847 / SCR CAP / Versa TTN
(1) / 0045-00250 / Matched pair / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-06870 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-53619 (Rev03) / Shield, 1-piece / RF Si
(1) / 0200-07582 (Rev05) / Ring, deposition / RF Si
(1) / 0021-54932 (Rev04) / Ring, cover / RF Si
(1) / 0021-26896 (Rev03) / Disk shutter / RF Si
(1) / 0020-07884 (Rev02) / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0041-25800 (Rev02) / Ring spacer / RF Si
Target:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / D0190-23987003 / END TI16.008-1T-0P / Versa TTN
(1) / NMJ-14040801-HL4 / END-W16411-0309T-DB / Versa WWN
(1) / D0190-3376702 / - / RF Si
Endura spare parts:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-05896 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-87836 (Rev2) / Straight shield extended 190mm spacing / RF Si
(1) / 0200-08030 / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0021-80310 / Cover ring / RF Si
(1) / 0200-12296 / Depo ring / RF Si
(2) / 0021-26896 / Shutter disk / RF Si
(1) / 0041-29007 / Spacer ring / RF Si
(6) / 3690-01929 / SCR CAP SKT HD / RF Si
(6) / 3690-02288 / SCR CAP SKT HD / RF Si
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II wird kundenspezifische komplexe Reaktortechnik auf ein ganz neues Niveau heben. Diese vielseitige und leistungsstarke Plattform kann eine Vielzahl verschiedener Prozesse abwickeln, so dass unsere Kunden Ressourcen optimieren und die Produktivität maximieren können. AKT Endura II liefert ein Fertigungssystem, das perfekt für das heutige Werk ist, mit hervorragender Leistung bei Prozesskomplexität, Qualität und Sicherheit. AMAT Endura II verfügt über mehrere Funktionen, die es von der Konkurrenz abheben. Es verfügt über Standardkomponenten wie eine Abschirmkammer, Vakuumquelle, Vakuumpumpen, Temperatursensor, Thermoelemente, Prozessgasleitungen, ein Gasventil, einen Regler und mehr. Darüber hinaus können Sie mit dieser Plattform die Konfiguration an die individuellen Anforderungen eines erweiterten Prozesses anpassen. Darüber hinaus erfüllt Endura II die hohen Industriestandards in Bezug auf Sauberkeit, Kontaminationskontrolle und Wärmeübertragung. Dieser fortschrittliche Reaktor ist ideal für viele Anwendungen im Halbleiter-, Glüh-, Reflow- und dielektrischen Beschichtungsprozess. In Bezug auf Halbleiterprozesse zeichnet sich APPLIED MATERIALS Endura II durch die Festlegung der wesentlichen Bedingungen für die Gerätestrukturbildung aus. Es ist auch geschickt in Geräteoptimierung und Ausbeute Verbesserung. Darüber hinaus kann Ihnen AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II mit seinem breiten Spektrum an verarbeitbaren Materialien und Optionen dabei helfen, Ihre Substrathomogenität, elektrische Eigenschaften und andere Prozessanforderungen zu optimieren. AKT Endura II zeichnet sich auch durch Glühprozesse aus. Es wurde mit einer effizienten Methode zur Erstellung spezieller Heizprofile entwickelt, die eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit während der gesamten Maschine liefern. Dies hilft, konsistente elektrische Eigenschaften und hohe Erträge zu schaffen. Darüber hinaus ist AMAT Endura II vorteilhaft bei der Verbesserung der Reflow-Ergebnisse, die zuverlässige und reibungslose Erwärmung von Ofenelementen. Endura II bietet auch außergewöhnliche dielektrische Beschichtungsfunktionen. Es ist mit einer hohen Präzision und Genauigkeit entwickelt, so dass genaue und wiederholbare Beschichtung der Substratoberflächen. Es ist auch bestrebt, optimale Bedingungen für die Oberflächendiffusion und -nutzung zu schaffen und gleichzeitig einen Aufbau übermäßiger Film- und Partikelverunreinigungen zu vermeiden. Alles in allem ist APPLIED MATERIALS Endura II eine außergewöhnliche Reaktorlösung, die eine Vielzahl von Prozessen bewältigen und zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse liefern kann. Es ist ideal für moderne Prozesse konfiguriert und in der Lage, branchenführende Sauberkeit, Kontaminationskontrolle und Wärmeübertragung zu liefern. Mit all diesen Eigenschaften ist klar, warum AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II der Reaktor der Wahl für viele der führenden Halbleiterhersteller von heute ist.
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