Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9200861 zu verkaufen

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ID: 9200861
Weinlese: 2012
PVD System 2012 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ist ein Reaktor, der speziell für die kostengünstige Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Es handelt sich um ein Batch-Reaktorsystem auf Einwaferbasis, das entwickelt wurde, um eine gleichmäßige Abscheidung von fortgeschrittenen Metallen, Legierungen, Oxiden und anderen Materialfilmen auf einem Silizium oder einem anderen Substrat zu ermöglichen. Es ist eine Heizplattenbasierte Vakuumabscheidungsplattform mit anpassbaren Prozessparametern für erweiterte Präzisionsprozesssteuerung. Der AKT Endura II Reaktor zeichnet sich durch ein einzigartiges Design mit einer verstellbaren Höhenquelle positioniert kombinierten Gasinjektor und Substrat Heizplatte, die eine gleichmäßige Abscheidung von Materialien und Gasen über große Flächen ermöglicht. Es verwendet fortschrittliche Technologie, um eine gleichmäßige Dicke für eine konsistente und präzise Verarbeitung weiter zu verteilen. Die eingebaute Ultrahochvakuumkammer hilft, reine Abscheidungsumgebungen zu schaffen. Seine eigene Steuerung ermöglicht die Feinabstimmung von Verarbeitungsparametern wie Druck, Temperatur und Durchflussrate sowie die genaue Steuerung der Dicke und Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Schichten. Im Betrieb nutzt der Reaktor eine Hochfrequenz (RF) Stromversorgung, um das Plasma des Materials für die Abscheidung zu erzeugen. Das Plasma wird in einer induktiv gekoppelten Kammer erzeugt und dann in die Hauptverarbeitungskammer eingespritzt, wo es präzise auf die Substratoberfläche aufgebracht wird. Der Brausekopf, der mit der Substratkammer verbunden ist, hilft dabei, die Materialien gleichmäßig zu liefern und gleichzeitig jegliche Rücksputter- oder Schmutzbildung zu verhindern. Der AMAT Endura II Reaktor ist ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für die Verarbeitung von Halbleitern auf Produktionsebene. Das kostengünstige Design macht es zu einer kostengünstigen Wahl für den Ausbau des Betriebs ohne Qualitätseinbußen. Darüber hinaus ermöglicht sein Design eine einfache Integration in bestehende Fertigungsprozesse und ist damit eine praktische Lösung für die moderne Halbleiterherstellung.
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