Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9236847 zu verkaufen

AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ist ein zweikammeriger, hochfrequent induktiv gekoppelter Plasmareaktor (ICP), der zum Ätzen und Abscheiden von Materialien für die Herstellung von Halbleitern und optoelektronischen Bauelementen konzipiert ist. Dieser Reaktor besteht aus einem HF-Generator, einer Gasstromkrümmereinrichtung, einem optischen Fenster und einer Plasmakammer. Der Reaktor ist mit zusätzlichen Inline-Prozesswerkzeugen für verschiedene Ätz- und Abscheideprozesse integriert. Der HF-Generator dient zur Versorgung des Plasmas und bietet eine maximale Leistung von bis zu 2000 Watt. Der HF-Generator umfasst ein hochfrequentes induktiv gekoppeltes Plasmasystem, das zur gleichmäßigen Verteilung der Leistung über die Plasmakammer für die Ätz- und Abscheidungsprozesse ausgelegt ist. Der Generator umfasst auch eine automatische Frequenzsteuereinheit, die es dem Benutzer ermöglicht, die Frequenz des HF-Generators in kontinuierlichen oder Sprintmodi einzustellen. AKT Endura II umfasst eine Gasstromkrümmer-Maschine, die aus zahlreichen Prozessen besteht, um eine breite Palette von Prozessparametern bereitzustellen. Dieses Werkzeug umfasst Massenstromregler, einen Gasmischkrümmer und eine geerdete Substratmutterplatte zur Probenhandhabung. Es beinhaltet auch eine Höhenfähigkeit für bis zu 100 mbar Druck in der Plasmakammer. Das optische Fenster für AMAT Endura II ist so konzipiert, dass es quarzartige Durchlässigkeit für minimale lichtinduzierte Erwärmung und Verschmutzung von Substraten bietet. Das Fenster ermöglicht eine hochauflösende Abbildung der Ätz- und Abscheideprozesse und wird beschichtet, um Abrieb oder Korrosion von aggressiven Chemikalien zu widerstehen, die in den Ätz- und Abscheideprozessen verwendet werden. Endura II Plasmakammer ist entworfen, um dem Benutzer eine breite Palette von Prozessen und Temperaturbereichen zur Verfügung zu stellen. Die Kammer dient zur Unterstützung plasmaselektiver Ätzfähigkeiten, einschließlich Ionenstrahlätzen, tiefenreaktiver Ionenätzung und gepulster plasmaverbesserter Atomschichtabscheidungstechniken. Es ermöglicht auch hochdichtes Plasma mit Wasserstoffproduktion für überlegene Ätzraten und Hochdurchsatzbetrieb mit niedrigen Temperatur- und Druckbereichen. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II ist ein anspruchsvoller Zweikammer-Hochfrequenz-ICP-Reaktor, der eine breite Palette von Ätz- und Abscheidungsprozessen für die Herstellung von Halbleitern und optoelektronischen Bauelementen ermöglicht. Der HF-Generator und der Gasstromkrümmer sorgen für die Verarbeitung unterschiedlichster Prozessparameter. Das optische Quarzfenster ermöglicht eine hochauflösende Abbildung des Ätz- und Abscheidungsprozesses, während die Plasmakammer eine hochdichte Plasma- und Wasserstoffproduktion bei niedrigen Temperatur- und Druckwerten ermöglicht. Das Modell AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II wurde entwickelt, um einen Hochdurchsatzbetrieb, überlegene Ätzraten und eine erhöhte Ausbeute für Prozessanwendungen zu gewährleisten.