Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9237854 zu verkaufen

ID: 9237854
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2013
PVD System, 12" Process: AlCu Depositon FI SMIF System: (3) Load ports Mainframe (6) Chambers: (2) HP AL (2) DS TTN (2) Degas Handler system: FI YASAKAWA Robot Buffer XP robot Transfer XP robot Accessories: DI MAX Equipment rack (2) Compressors (2) Generator racks 2013 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ist ein hochmoderner Waferbearbeitungsreaktor, der in Halbleiter- und verwandten Industrien eingesetzt wird. Es wurde entwickelt, um eine effiziente, genaue und zuverlässige Verarbeitung von Wafern zu ermöglichen. Der Reaktor besteht aus mehreren verschiedenen Komponenten, darunter einer Induktionsheizung, einem Gasfördersystem, einer Vakuumkammer, einem HF-Stromgenerator, einem Kühlventilator, einem Plasmagenerator und einem pyrolytischen Graphitreaktor (PGR). Die Induktionsheizeinheit verwendet eine speziell konstruierte Spule, um die Wafer für das durchzuführende Verfahren schnell auf die gewünschte Temperatur zu erwärmen. Die Gasfördermaschine stellt die dabei verwendeten Gase zur Verfügung, die Stickstoff, Sauerstoff, Argon und andere einfachere Moleküle umfassen können. Die Vakuumkammer hält einen konstanten Vakuumdruck innerhalb der Kammer aufrecht, was eine effiziente Waferbearbeitung ermöglicht. Der HF-Stromgenerator erzeugt die notwendige Hochfrequenzleistung für den zu aktivierenden Plasmagenerator. Nach dem Einspritzen der Gase in die Kammer erzeugt der Plasmagenerator ein starkes Plasmafeld, das zum Bruch von Bindungen in den Gasen wirkt und eine Plasmaspezies bildet, mit der eine Vielzahl von Prozessen wie Ätzen, Abscheiden, Glühen oder Wachstum durchgeführt werden kann. Der Kühlventilator hält den PGR-Schild auf einer konstanten Temperatur, um die Wafer vor Schäden durch Hitze zu schützen. Schließlich kann der Reaktor verwendet werden, um Parameter wie Temperatur, Druck, HF-Leistung, Gasfluss und Gleichmäßigkeit zu messen. Insgesamt ist AMAT/AKT Endura II ein hochentwickelter und zuverlässiger Waferbearbeitungsreaktor, der eine effiziente und genaue Verarbeitung ermöglicht. Es ist eine ideale Wahl für Fachleute der Halbleiterindustrie, die Genauigkeit und Geschwindigkeit schätzen. Dank seiner vielfältigen Eigenschaften ist es auch eine effiziente und sichere Option für Prozesse wie Ätzen, Abscheiden, Glühen oder Wachstum.
Es liegen noch keine Bewertungen vor