Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9293625 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II
ID: 9293625
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
System, 12" Process: Metal 2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ist ein fortgeschrittener CVD (chemical vapor deposition) Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor. AKT Endura II PECVD-Reaktor wurde entwickelt, um maximale Prozessgleichmäßigkeit und höchste Abscheidungsraten zu gewährleisten, was zu verbesserten Ausbeuten beim Einsatz führt. AMAT Endura II PECVD-Reaktor nutzt Hochfrequenzleistung, um ein Plasma in der Prozesskammer zu erzeugen, wobei das Plasma durch ein Vorläufergas aktiviert wird, das in die Kammer eingespritzt wird. Das aktivierte Vorläufergas kann zur Abscheidung unterschiedlichster dünner Filme verwendet werden, darunter Oxid, Nitrid und Polysilizium. Dies wird durch die thermische oder nicht-thermische Dissoziation der Vorläufermoleküle erreicht, die reaktiv zersetzt und als dünner Film auf der Substratoberfläche abgeschieden werden. Die Prozesskammer von Endura II kann für unterschiedliche Produktgrößen, Materialien und Substratkonfigurationen konfiguriert werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura II PECVD-Reaktoren sind in mehreren Konfigurationen erhältlich, darunter Chargenkammer, horizontales Rohr und vertikales Rohr. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II verfügt auch über ein Gasverteilungssystem, das eine gleichmäßige Gasverteilung über die gesamte Kammer gewährleistet und eine gleichmäßige Abscheidung über die Substrate ermöglicht. Die Kammer ist außerdem mit einer Hochfrequenzspule ausgestattet, die eine gleichmäßige Hochfrequenzverteilung innerhalb der Kammer ermöglicht. Die fortschrittlichen Heizelemente von AKT Endura II sorgen für eine schnelle Inbetriebnahme und eine gleichmäßige Prozesstemperatur in der Kammer. Dies trägt dazu bei, dass die Reaktion korrekt abläuft und die gewünschten dünnen Filme mit hoher Genauigkeit abgeschieden werden. AMAT Endura II bietet auch mehrere erweiterte Steuerungsoptionen, die die Prozessgenauigkeit und Wiederholbarkeit verbessern können. Zu diesen Funktionen gehören Endpunktsteuerung, Löschdiffusion und Bearbeitungsfunktionen für Programmeinstellungen, die eine präzise Prozessoptimierung ermöglichen und wiederholbare Prozessergebnisse gewährleisten. Endura II PECVD Reaktor ist ein zuverlässiges und einfach zu bedienendes Werkzeug, das überlegene Abscheidungsleistung und Gleichmäßigkeit bietet. Dieser PECVD-Reaktor eignet sich hervorragend für den Einsatz in einer Vielzahl anspruchsvoller Produktionsumgebungen wie Mikroelektronik, MEMs (mikroelektromechanische Systeme), Flachbildschirm und fortschrittliche Verpackungsanwendungen.
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