Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9293626 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ist ein Halbleiter-Ätzreaktor zur Herstellung fortschrittlicher nanoskaliger Strukturen, die in einer Vielzahl elektronischer und optoelektronischer Bauelemente verwendet werden. Dieser Reaktor wird unter Hochvakuum und Niederdruck (Vakuum bis 1×10−6 Torr) betrieben. Es verfügt auch über eine integrierte Photoresist-Ätzung und einen mehrstufigen Abscheidungsprozess sowie erweiterte Steuerung, fortschrittliche Sicherheitssysteme und Prozessüberwachungsfunktionen. Das System verwendet ein dreistufiges Verfahren, um Nanostrukturen auf einem Wafer zu bilden: Ätzen, Abscheiden und Nachbearbeitung. Das Ätzen erfolgt typischerweise in einem plasmaverstärkten chemischen Dampfabscheidungssystem (PECVD) und beinhaltet die Anwendung eines Plasmas aus Reaktanten-Ionen und -Radikalen, um selektiv Material aus dem Wafer zu entfernen. Der aufgebrachte Druck und die Kraft der Ionen und Radikale steuern die Tiefe des Ätzes und die Größe und Form der erzeugten Strukturen. Die Vorrichtung umfaßt eine obere und eine untere HF-Kammer, wobei die obere Kammer der Materialabscheidung gewidmet ist und eine Quellkammer enthält, die zum Abscheiden von Material auf den Zielwafer verwendet wird. Die untere HF-Kammer enthält die Ätzkammer, in der Ätz- und Reinigungsvorgänge durchgeführt werden. Durch den Übertragungsmechanismus des Reaktors kann der Wafer schnell und genau zwischen den Kammern bewegt werden. Der Reaktor ist ferner mit einem Speicher für ultrareine Gaszufuhr sowie einer temperaturgeregelten Kammer zum Schichten von Materialien in präzisen Schichten ausgestattet. Dieser Ätzreaktor bietet dem Anwender eine Vielzahl von Prozessparametern, darunter Substrattemperatur und HF-Leistung. Die Substrattemperatur kann von Raumtemperatur bis 700 ° C variiert werden, während die HF-Leistung in einem Bereich von 50-600 W gesteuert werden kann. Insgesamt ist AKT Endura II ein zuverlässiger und vielseitiger Ätzreaktor, der Anwendern die Möglichkeit bietet, Mikro- und Nanostrukturen mit beispielloser Präzision zu erstellen. Seine internen Sicherheitssysteme, gepaart mit seiner sehr intuitiven Bedienung, machen es zu einem idealen Werkzeug für jede Halbleiterherstellungsumgebung.