Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9296945 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II ist eine fortschrittliche Prozess-/Reaktorausrüstung zur Herstellung ultrahochreiner Materialien für Halbleiteranwendungen. AKT Endura II ist ein Niederdruck-Chemikalien-Dampfabscheidung (LPCVD) Reaktor, entworfen, um eine breite Palette von Halbleiterfilmen zu produzieren, einschließlich Dielektrika, Gate-Oxide und Barriereschichten. Die Prozesskammer des Systems ist zylindrisch geformt und mit einem Edelstahlkörper aufgebaut. Die vakuumdichte Kammer ermöglicht es dem Reaktor, einen ultimativen Vakuumbereich von 10-6 Torr zu erreichen. Die Stickstoffspülmaschine der Anlage verhindert, dass Oxidation und Partikel in die Reaktorkammer gelangen. Die präzise Temperaturregelung ermöglicht es AMAT Endura II, die für die Dünnschichtabscheidung erforderlichen Prozessparameter enger Temperaturgleichförmigkeit einzuhalten. Endura II kann eine Vielzahl von Filmen mit einem niedrigen thermischen Budget ablegen. Dies ermöglicht die Abscheidung von dünnen Folien mit geringer Gesamt-Prozesstemperatur. Durch den Einsatz von Plasmaverfahren zeichnet sich APPLIED MATERIALS Endura II durch eine hervorragende Plasmaquellenleistung aus. Die Touchscreen-fähige Benutzeroberfläche bietet ein intuitiveres Benutzererlebnis, das es den Bedienern ermöglicht, die Prozessbedingungen genau zu überwachen. Zusätzlich ist das Werkzeug mit einem flexiblen Verteiler ausgelegt, der eine präzise Durchflusssteuerung bietet, um Reaktionsgeschwindigkeiten und Produktqualität zu optimieren. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II verfügt über ein effizientes Design, mit mehreren Teilsystemen zur genauen Kontrolle und Überwachung der Prozessbedingungen. Dies gewährleistet höchste Prozesswiederholbarkeit. AKT Endura II bietet auch eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, wie eine Tieftemperaturverriegelung, um die Sicherheit der Betreiber zu gewährleisten. Damit ist das Modell ideal für Halbleiterherstellungsprozesse. AMAT Endura II ist eine zuverlässige Reaktorausrüstung, die sich für fortschrittliche Werkstoffherstellungsanwendungen eignet. Sein effizientes Design und präzise gesteuerte Temperatur-, Strömungs- und Drucksysteme bieten ideale Voraussetzungen für eine wiederholbare, qualitativ hochwertige Prozessleistung. Die intuitive Benutzeroberfläche und Sicherheitsfunktionen machen das System zu einer idealen Wahl für die Herstellung hochwertigerer Halbleiterprodukte.
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