Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura Pre Clean Chamber #9008985 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura Pre Clean Chamber ist ein automatisierter, großflächiger integrierter Werkzeugreaktor (IT), der den Herstellungsprozess von Halbleiterchips beschleunigt. Es ist ein effizientes Verfahren zum Entfernen kritischer Verunreinigungsschichten von Substraten und Wafern vor dem Eintritt in eine herkömmliche Verarbeitungskammer. Diese Kammer eignet sich besonders zur Entfernung von Schmutz, Staub und anderen flüchtigen organischen Verbindungen (VOCs), die sonst durch herkömmliche Verarbeitungskammern hindurchgehen und in die Schaltung des Chips eingebettet werden. AMAT Endura Pre Clean Chamber verfügt über eine integrierte automatisierte Steuerung, die eine kontinuierliche Überwachung des Prozesses ermöglicht. Es ist der erste Schritt eines mehrstufigen Halbleiterverarbeitungssystems, das aufgrund der hohen Integration einen großen Vorteil einer geringeren Größe der Reinraumfläche bietet. Die Endura wird durch eine patentierte Einheit gesteuert, die die Steuerung von Temperatur, Druck, Sauerstoffkonzentration und anderen Variablen ermöglicht. Die Vorreinigungskammer verwendet programmierbare Parameter und autonome Anpassung der Prozessbedingungen. Es arbeitet in zwei verschiedenen Verfahren, einem einstufigen Verfahren zum Abscheiden eines Oxids und einem zweistufigen Verfahren zum Abscheiden und Ätzen einer einzigen Schicht. Die Kammer ist direkt in die Waferbearbeitungsmaschine eingebaut, wodurch eine dicht abgedichtete Umgebung zum Arbeiten geschaffen wird. Die Kammer ist aus Edelstahl gefertigt und mit einem hochreinen O-Ring zur verbesserten Abdichtung ausgestattet. Die Kammer enthält außerdem drei unabhängig voneinander betriebene HF-Plasmazonen und eine Reihe von mehrstufigen internen Filtern, die eine bessere Umgebung für die Reinraumbearbeitung bieten. Der eingebaute Regler innerhalb der Kammer ermöglicht die Überwachung und Einstellung unterschiedlichster Substrat- und Prozessparameter. Es bietet auch eine schnelle Temperatur- und Druckkontrolle sowie Echtzeit-Fehlererkennung und Kontrolle der Substrattemperatur und HF-Leistung. Das Überwachungswerkzeug bietet eine vollständige Sichtbarkeit aller Prozessvariablen und gewährleistet so die höchste Ausbeute an Wafern. Diese Kammer ist extrem zuverlässig und effizient, mit der Fähigkeit, 24/7 mit minimaler Wartung zu laufen. Die benutzerfreundliche Benutzeroberfläche vereinfacht die Programmierung, Bedienung und Steuerung und erleichtert es den Bedienern, mit minimalem Aufwand optimale Ergebnisse zu erzielen. Diese Kammer ist ein großartiges Werkzeug, um maximale Waferqualität und Ausbeute im Halbleiterherstellungsprozess zu gewährleisten. Es bietet ein hohes Preis-Leistungs-Verhältnis und bietet eine zuverlässige und effiziente Lösung, um Verunreinigungen vor dem Eintritt in eine traditionelle Kammer schnell von Substraten zu entfernen. Es ist eine wesentliche und kostengünstige Komponente für die Reinraumherstellung.