Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura Pre Clean Chamber #9009003 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura Pre Clean Chamber ist ein automatisierter Polysiliziumreaktor, der entwickelt wurde, um eine hochgradige Waferreinigung während des CVD-Prozesses (Chemical Vapor Deposition) der Silanabscheidung zu ermöglichen. Dieser spezialisierte Reaktor wird verwendet, um den Wafer effektiv zu reinigen, bevor der Abscheidungsprozess beginnt, um Kontaminationen zu beseitigen und konsistente, qualitativ hochwertige Abscheidungsergebnisse zu gewährleisten. Die vorgereinigte Reaktorkammer ist zylindrisch geformt und für die gleichzeitige Aufnahme mehrerer Wafer ausgelegt, was einen erhöhten Durchsatz und reduzierte Zykluszeiten ermöglicht. Innerhalb der Kammer werden strategisch mehrere Gasinjektoren platziert, um eine gleichmäßige Verteilung von Silan- und Reaktantgasen über die Waferoberfläche zu fördern. Außerdem wird die gesamte Kammer evakuiert und erwärmt, um gleichmäßige Temperaturen während des gesamten Reinigungsprozesses zu gewährleisten. Der Reinigungsprozess selbst ist automatisiert und besteht aus mehreren Stufen. Zunächst wird das Silan erhitzt und durch die Injektoren in die Kammer geleitet, wodurch eine gleichmäßige Beschichtung von Reaktantpartikeln auf der Waferoberfläche entsteht. Anschließend wird der Wafer auf eine vorbestimmte Temperatur erhitzt, die hilft, die Oxidbildung und den Abbau zu initiieren. Dieser Prozess hilft, vorhandene Oberflächenverunreinigungen effektiv und schnell zu entfernen und bereitet den Wafer für die CVD-Verarbeitung vor. Sobald die Vorreinigung abgeschlossen ist, wird die Kammer gespült und mit einem nicht oxidierenden Gas beaufschlagt. Dies hilft, den Wafer vor Oxidation und weiterer Kontamination zu schützen, während er aus der Kammer entnommen und an die CVD-Einheit zurückgegeben wird. AMAT Endura Pre Clean Chamber ist eine ausgezeichnete Wahl, wenn es um Wafer-Reinigungslösungen geht, die eine konstante und zuverlässige Leistung bieten.