Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura SL #293722942 zu verkaufen

ID: 293722942
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2001
W-CVD System, 12" OHT WIP Delivery (2) Load ports Load port type: (25) Wafer FOUPs Operator access switch E84 Sensors and cables KEYENCE with BCR (4) Colours configurable light tower (2) Heat Exchangers NESLAB Chiller / Steelhead-1 UNISEM UN2002APG Gas scrubber Chamber position 1, 4, C and D: Tungsten Pumps: IPUP Type: ALCATEL A100L Position 1, 4, C, D: EBARA A150 Type 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura SL Reactor ist eine hochleistungsfähige, hochwertige chemische Dampfabscheidung (CVD) -Ausrüstung. Dieses System ist für branchenführende Atmosphärendruck-CVD-Prozesse mit einem Wafer für die Herstellung von Halbleiterbauelementen konzipiert. AMAT Endura SL Reactor bietet außergewöhnliche konforme Abscheidung mit überlegener Gleichmäßigkeit der Filme, um die neuesten 3D-ICs, LEDs und MEMS zu ermöglichen. Der Kern von APPLIED MATERIALS Endura SL Reactor ist seine überlegene Gassteuerung. Es verfügt über ein innovatives Design mit geringerem Energieverbrauch und höherem Durchsatz, was zu mehr Produktivität und Effizienz führt. Endura SL Reactor bietet eine dynamische Strömungssteuerung mit ausgezeichneter kurzfristiger Gleichmäßigkeit, um die Abscheidung konsistenter Filme zu ermöglichen. Seine CVD-Kammer ist so konzipiert, dass sie mehrzonensteuerbar ist, um mehrere Prozessrezepte in einer Kammer zu optimieren. Es verfügt über eine innovative Lastverriegelungseinheit, die eine präzise Verarbeitung von Wafern mit geringer Last ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura SL Reactor bietet auch eine Vollbereich-Temperaturregelung von der Niedertemperaturabscheidung bis 900 ° C. Diese Temperaturflexibilität ermöglicht eine breite Palette von CVD-Prozessen einschließlich PECVD, PEALD und ALD. Der Reaktor bietet auch In-Situ- und Ex-Situ-Diagnostik zur schnellen Erkennung und Korrektur von Prozesssteuerungsproblemen. Seine Software-Suite bietet eine automatisierte Steuerung des gesamten CVD-Prozesses für eine bessere Kontrolle und Wiederholbarkeit. Darüber hinaus verfügt der AMAT Endura SL Reactor über eine außergewöhnliche Prozessstabilität durch eine einzigartige, integrierte Regelungsarchitektur. Es kann Prozessbedingungen wie Temperatur, Feuchtigkeit, Durchfluss und Druck über lange Zeiträume ohne Drift aufrechterhalten. Dadurch wird sichergestellt, dass der CVD-Prozess immer genau kontrolliert wird. ANGEWANDTE MATERIALIEN Endura SL Reactor bietet auch eine breite Palette von automatisierten Sicherheitsfunktionen. Diese stellen sicher, dass Prozesse sicher und mit minimalem Risiko für Personal, Ausrüstung und Umwelt betrieben werden. Die automatisierten Sicherheitsprotokolle überwachen Parameter wie Druck, Durchfluss, Temperatur und mehr und können Prozesse abschalten, wenn vorgegebene Schwellenwerte überschritten werden. Insgesamt ist Endura SL Reactor eine Hochleistungs-CVD-Maschine, die die strengsten Anforderungen für die Herstellung von Halbleiterbauelementen erfüllt. Mit seiner überlegenen Gassteuerung, der vollständigen Temperaturregelung und automatisierten Sicherheitsfunktionen bietet dieses Tool die höchste Qualität der Abscheidung und Prozessleistung auf dem Markt. Es ist eine ideale Wahl für Unternehmen, die zuverlässige, wiederholbare CVD-Prozesse für ihre nächste Generation von mikroelektronischen Geräten suchen.
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