Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura TxZ #9192252 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura TxZ Reactor ist ein hochmodernes CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition), das Anwendern eine unübertroffene Prozesskontrolle und Genauigkeit innerhalb der Halbleiterindustrie bietet. Dieses System nutzt eine Reihe fortschrittlicher Technologien, um eine optimale Prozesskontrolle und Produktqualität zu erzielen und eine erhöhte langfristige Produktivität bei gleichzeitiger Maximierung von Ertrag und Kosteneffizienz zu erzielen. AMAT Endura TxZ Reactor verfügt über eine Ultra-Low-Thermal-Masse (ULTM) Generatorkammer und Substratschränke. Dieses Design minimiert parasitäre Verluste und maximiert die thermische Leistung, reduziert die thermische Zykluszeit drastisch und sorgt für hohe Prozessgeschwindigkeiten. Eine innovative Mehrzonen-Temperaturregeleinheit maximiert zudem die Regelgenauigkeit und reduziert die nicht-produktive Prozesszeit durch Feinabstimmung jeder einzelnen Temperaturzone. Darüber hinaus minimiert ein On-Board-Druckverstärker die thermische Zykluszeit weiter und ermöglicht höhere Durchsatzraten. Um eine qualitativ hochwertige Geräteproduktion zu gewährleisten, bietet APPLIED MATERIALS Endura TxZ Reactor absolute Prozesssteuerung und Wiederholbarkeit aller Parameter, einschließlich Quelltemperatur, Einbauhöhe, Drehzahl, Bewegungszeit, Gasgemisch und Gasfluss. Darüber hinaus wurde die Maschine entwickelt, um eine große Anzahl fortschrittlicher Prozessüberwachungs- und Steuerungswerkzeuge zu integrieren, einschließlich Echtzeit-in-situ-Prozessanalyse und -steuerung, Gesamtdruckregelung, Echtzeit-Spektroskopie, Bilderkennungssysteme und quantitative Analysen. Endura TxZ Reactor verfügt auch über eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich automatischer Druckauslösesysteme und Reaktorsicherheitsabschaltmechanismen. Dies sorgt für Sicherheit für die Nutzer und bietet ein zusätzliches Sicherheitsniveau für die Betreiber und Mitarbeiter in der Einrichtung. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura TxZ Reactor bietet eine beeindruckende Reihe von Funktionen, so dass es eine ideale Wahl für erweiterte Prozesssteuerung in Halbleiteranwendungen. Die fortschrittliche Technologie des Tools gewährleistet eine schnelle thermische Zykluszeit, Prozesswiederholbarkeit und hervorragende Ergebnisse in der Produktqualität. Benutzer können sich daher auf die Ressource verlassen, um eine optimale Prozessleistung und Kosteneinsparungen zu erzielen.