Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #117307 zu verkaufen

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ID: 117307
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Barrier / seed, 8" wafers (SNNF) SMIF CH A – Pass through CH B – Cool Down CH C – Pre-Clean IIe ceramic CH D – Pre-Clean IIe ceramic CH E – Orient / Degas CH F – Orient / Degas CH 1 – PVD SIP Ta Wide Body with shutter 2x Pinnacle Comdel 600S SLT ESC Backside Ar CH 4 – PVD SIP Cu Wide Body with shutter 2x Pinnacle Comdel 600S SZB ESC Backside Ar Active Thermal Science Chiller Heat Exchanger - Neslab Wide Body load locks Transfer chamber robot – VHP Buffer chamber robot – HP+ Synergy V452 SBC Enhanced CTI Fast regen cryo pumps CTI 9600 cryo compressors 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor (auch bekannt als AMAT ENDURA Reactor) ist eine großtechnische Prozessanlage für die Halbleiterindustrie. Der Reaktor wird für chemische Aufdampfverfahren (CVD) eingesetzt und wird typischerweise zur Abscheidung von Dünnschichtschichten aus Silizium, diamantartigem Kohlenstoff (DLC) und Nitridschichten auf Substraten verwendet. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Reaktor ist ein Hochtemperatur-Hochdruck-CVD-Reaktor, der in der Lage ist, die Prozessparameter zu überwachen und zu steuern, die für eine konsistente und zuverlässige Abscheidung von Dünnschichtschichten erforderlich sind. Es ist mit einer Heizkammer und einem beheizten Suszeptor ausgestattet und mit einer Vielzahl von Gasen und Reaktanden kompatibel. Der Reaktor verfügt auch über eine Reihe von fortschrittlichen Prozesssteuerungen, einschließlich einer präzisen Abscheidungstemperaturregelung, Druckmessung und -regelung und Durchflussratenkontrolle. ENDURA Reactor ist in der Halbleiterindustrie für die Herstellung von elektronischen Schaltungen, Mikrostrukturen, MEMS-Komponenten und anderen Anwendungen weit verbreitet. Es ist für die schnelle und effiziente Abscheidung von Schichtmaterialien konzipiert und zeichnet sich durch eine ausgezeichnete Temperaturgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit für eine hochpräzise und wiederholbare Abscheidung aus. Der AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reaktor ist auch darauf ausgelegt, Prozesszeiten zu reduzieren, Fehler zu minimieren und den Durchsatz zu maximieren. Der Reaktor besteht aus zwei Hauptkomponenten: der Prozesskammer und dem Regler. Die Prozesskammer besteht aus Quarz, Aluminium oder Edelstahl und beherbergt das Heizelement, den Suszeptor und alle notwendigen Sensoren und Ventile. Es ist auch der Bereich, in dem der Abscheidungsprozess tatsächlich stattfindet. Der Controller ist ein fortschrittliches computergestütztes System, das die notwendige Software und Hardware enthält, um den Reaktor zu regulieren und die Prozessparameter zu optimieren. AMAT ENDURA Reactor bietet Prozessingenieuren und Betreibern volle Kontrolle über den gesamten Abscheidungsprozess. Es kann mit einer breiten Palette von Materialien, einschließlich Siliziumdioxid, Nitrid und diamantähnlichen Kohlenstoff verwendet werden. Der Reaktor weist zudem eine sehr gleichmäßige Temperaturverteilung, eine präzise Druckregelung und extrem niedrige Verunreinigungen auf. Zusätzlich zu seinen Prozesssteuerungsfunktionen wurde der ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Reactor entwickelt, um schnelle und konsistente Abscheideraten zu bieten. Es verfügt auch über verschleißfeste Teile und enthält Funktionen, die Geräusche und Partikelwerte für eine sauberere Abscheidungsumgebung reduzieren. Insgesamt ist ENDURA Reactor eine fortschrittliche industrielle Prozessausrüstung, die für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Der Reaktor wird für CVD-Verfahren eingesetzt und kann zur Abscheidung von Dünnschichtschichten aus Silizium, diamantartigem Kohlenstoff und Nitrid auf Substraten verwendet werden. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA bietet präzise Prozesskontrolle und schnelle Abscheideraten sowie geringe Geräusch- und Partikelwerte für eine sauberere Abscheidungsumgebung.
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