Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #177672 zu verkaufen

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ID: 177672
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
Sputtering system, 6" 1. ALCu(Clamp) 2. Wide-Ti(A101) 3. Wide-Ti(A101) 4. STD-AL-Si-Cu(Clamp) 5. - A. Pass B. Cool C. PC2 D. PC2 E. ORIENTER-DEGAS F. ORIENTER-DEGAS BUFFER: HP XFER: HP LL: NARROW MAGNET: DURA & G12 Pumps: EBARA AA40WN, AA40W, AA70W Missing: SBC FDD 24V Power supply Currently installed and shut down 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor ist ein hochwertiges CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition) für Materialabscheidungsprozesse in der Halbleiterindustrie. Der Reaktor bietet überlegene Leistung und hervorragende technische Unterstützung in einem kostengünstigen Paket. AMAT ENDURA bietet eine präzise Steuerung der Vakuumverarbeitungsumgebung und eine optimale Auswahl von Prozessen, Materialien und Abscheideraten. APPLIED MATERIALS ENDURA verwendet ein Gasfördersystem mit einem Multi-Loch-Effuser, präzise Druckregelventile, um eine präzise Druckregelung zu erhalten, und eine einheitliche Gasverteilungsplatte, um eine gleichmäßige Gasverteilung zu erzielen. Es verfügt auch über einen Multi-Loch-Effuser, Umlenkplatten, ventilgesteuerte Heizquellen und eine einzigartige Triple-Source-Spender-Einheit, um einheitliche Abscheidungsergebnisse zu erzielen. ENDURA ist in der Lage, sowohl thermische als auch plasmaverbesserte CVD-Prozesse durchzuführen, und seine Fähigkeit, eine breite Palette von Materialien für die Abscheidung aufzunehmen, macht es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen. Jeder Prozess kann auf die Optimierung der Abscheiderate, Gleichmäßigkeit und Selektivität zugeschnitten werden. Darüber hinaus ermöglicht das große Prozessfenster und die präzise Steuerung von Prozessparametern dem Anwender die genaue Anwendung seines spezifischen Prozessdesigns. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reaktor bietet überlegene thermische Stabilität und thermische Gleichmäßigkeit über seine große 115mm x 265mm Substratkapazität. Es verwendet auch eine erweiterte Strömungssteuerung, um das gleichmäßigste Strömungsmuster und eine gleichmäßige Abscheidung für verbesserte Ausbeuten zu erreichen. Die intelligente Steuerungsfähigkeit der Maschine ermöglicht es dem Anwender, Prozessflüssigkeiten und Temperaturen genau und schnell anzupassen, und seine automatisierte Prozesssteuerung minimiert den Eingriff des Anwenders und spart Zeit. AMAT ENDURA CVD Reactor wurde entwickelt, um einfach zu bedienen, sicher und zuverlässig im Einsatz zu sein. Es bietet ein intuitives 10-Zoll-Touchscreen-Display und eine erweiterte grafische Benutzeroberfläche (GUI), mit der der Benutzer Prozesseinstellungen schnell überprüfen und Parameter nach Bedarf schnell anpassen kann. Es kommt auch mit erweiterten Sicherheitsfunktionen wie automatische Abschaltung im Falle eines Fehlers, und das Werkzeug ist mit integrierten Alarmanzeigen ausgestattet, um eine klare und genaue Rückmeldung im Falle von Fehlern zu liefern. Abschließend ist APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reactor eine ideale Lösung für jede Materialabscheidungsprozessaufgabe in der Halbleiterindustrie. Es bietet überlegene Leistung, hervorragende technische Unterstützung und zuverlässige Sicherheitsfunktionen in einem kostengünstigen Paket. Mit seiner präzisen Steuerung der Prozessumgebung und Automatisierungsfunktionen bietet ENDURA dem Anwender eine hocheffiziente und kostengünstige Ausstattung für alle ihre Anforderungen an die Abscheideprozesse.
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