Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9155075 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA ist ein fortschrittlicher Ätz- und Abscheidungsreaktor, der von AMAT entwickelt wurde. Das Gerät wurde entwickelt, um eine Vielzahl von CVD- und Plasmaätzprozessen mit hoher Präzision, hoher Gleichmäßigkeit und hohem Durchsatz für eine Reihe von Anwendungen im Halbleiter-, optischen und industriellen Bereich zu ermöglichen. Das System besteht aus mehreren Komponenten, darunter eine Prozesskammer, eine Lastschloßkammer, eine Quellkammer, eine Transferkammer und eine Gasplatte. Die Prozesskammer ist der Hauptteil der Einheit und beherbergt die Prozessquelle, um das Quellenmaterial und reaktive Gase bereitzustellen, die für die Bildung des gewünschten Prozesses benötigt werden. Die Lastschloßkammer dient dazu, der Prozesskammer eine Vakuumdichtung zur Stufenbelastung vorzusehen. Die Quellkammer enthält Spezialquellen für Anwendungen wie Atomschichtabscheidung, Molekularstrahlepitaxie und Sputtern. Die Transferkammer dient zum Transport und Transfer von Prozessmaterialien sowie als Puffer zwischen der Hauptprozesskammer und der Lastschloßkammer. Diese Kammer und die Gasplatte dienen zur Überwachung und Steuerung von Druck, Temperatur und Strömung von inerten Trägern und chemischen Vorläufergasen in die Prozesskammer. AMAT ENDURA wurde entwickelt, um eine präzise und stabile Prozessumgebung in einer einzigen großen Reaktionskammer bereitzustellen. Diese Maschine ist darauf ausgelegt, auch bei mehrschichtigen Prozessabläufen oder bei schwierigen Abscheidungsmaterialien überlegene Filmeigenschaften zu erzielen. Mit seiner optimierten Prozesssteuerung, hochauflösenden Diagnostik und automatisierten Prozesssteuerung ist APPLIED MATERIALS ENDURA ideal für eine Vielzahl von Abscheide- und Ätzprozessen, die hohe Leistung und Wiederholbarkeit erfordern. Bezogen auf die Prozesstemperatur liegt der Temperaturbereich für dieses Werkzeug zwischen 10 ° C und 400 ° C. Der Druckbereich ist ebenfalls einstellbar und beträgt von 10-5 Torr bis 1,8 Torr. Darüber hinaus ist die Anlage mit mehreren Vorläufergasen kompatibel und verfügt über eine verstellbare Plattenanode für Ätzprozesse. Sicherheitstechnisch verfügt das Modell über mehrere Sicherheitssensoren zur Überwachung des Gasdruck- und Temperaturniveaus innerhalb der Kammer. Dieses Gerät verfügt auch über ein modernes In-situ-Reinigungsverfahren, um die erforderliche Menge an Kammerneuabstimmung zu reduzieren und Probleme im Zusammenhang mit Ausgasen zu vermeiden. Zusammenfassend ist ENDURA ein hochpräziser und fortschrittlicher Ätz- und Abscheidungsreaktor, der entwickelt wurde, um CVD- und Plasmaätzprozesse mit hoher Genauigkeit und Durchsatz durchzuführen. Mit seiner verstellbaren Plattenanode, Sicherheitssensoren und automatisierten Prozesssteuerung ist dieses System ideal für eine Vielzahl von Abscheide- und Ätzanwendungen.