Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9157987 zu verkaufen

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ID: 9157987
PVD System Aluminum deposition Cold aluminum with Ti-TiN Mainframe: 150mm with tiltout cassettes Buffer: HP Robot Transfer: HP Robot Chamber C: Empty Chamber D: Empty Chamber 1: Clamp standard PVD heater, Aluminum 350 C Magnet part: 0010-20224 Chamber 2: Clamp standard PVD heater, Aluminum 350 C Magnet part: 0010-20224 Chamber 3: Clamp standard PVD heater, Titanium 100 C Magnet part: 0010-20221 Chamber 4: TiN 101 pedestal Magnet part: 0010-20223 or 0040-20129.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der typischerweise für Werkstoffherstellungsprozesse verwendet wird. Das Gerät arbeitet durch Zersetzung einer gasförmigen Spezies bei Temperaturen von bis zu 1050 ° C, in der Regel mit Hexamethyldisilizan (HMDS) als Vorläufer. Der Zersetzungsprozeß erzeugt eine Dampfphase, die aus Silizium, Sauerstoff und Kohlenstoffelementen besteht, und diese Dampfphasenteilchen wirken dann mit dem Zielsubstrat zusammen, wodurch sich ein dünner Materialfilm auf dem Substrat bildet. AMAT ENDURA ist für maximale Flexibilität sowie gleichmäßige Qualität der Dünnschichtabscheidung optimiert. Das System besteht aus mehreren Prozesseinheiten, wie der Prime Station, den Interlocks und den Substrate Process Controllern. Die Prime Station ist die zentrale Steuereinheit des Reaktors, in der der Bediener die Parameter des Abscheidungsprozesses einstellt, einschließlich der Reaktantenart, der Heizleistung, der Temperatur, des Kammerdrucks und der Substrattemperatur. Es überwacht auch die Prozessparameter und verfügt über eine Reihe von Warnindikatoren, wenn einer der Parameter aus ihren Einstellungen fällt. Die Interlocks sind die elektronischen Steuergeräte, die zur Überwachung der Reaktorbedingungen und der Substratprozessregler eingesetzt werden. Die Interlocks steuern die Reaktionskammerumgebung durch die Messung von Temperatur, Druck und Gasstrom sowie die Bewegung des Substrats. Die Substratprozessregler sind für die Aufrechterhaltung der Substrattemperatur und des gleichmäßigen Schichtwachstums über dem Substrat verantwortlich, indem sie die Winkelbewegung des Substrats sowie die Strömungsgeschwindigkeit und Zusammensetzung der Reaktantgase steuern. Die Maschine verfügt auch über eine umfangreiche Sammlung von Hilfskomponenten, die verwendet werden, um einen zuverlässigen Prozessbetrieb zu gewährleisten, wie die Quellrohre, Probenzuführer, Balg und Blasen. Die Quellrohre stellen der Reaktionskammer die dampfphasenchemischen Vorstufen zur Verfügung, während der Probenzuführer beim Einbringen von Feststoff in die Reaktionskammer unterstützt. Der Balken ist eine Kombination aus einem Isolator und einer Temperaturmesseinrichtung, die eine präzise Temperaturregelung der Reaktionskammer ermöglicht. Der Bubbler hilft auch, Reaktantgase in den Reaktor einzubringen. APPLIKATIONSMATERIALIEN ENDURA ist hocheffizient, da es darauf ausgelegt ist, eine präzise Steuerung des Dünnschichtabscheidungsprozesses zu erreichen und die Anzahl der für die Verarbeitung benötigten Substrate zu reduzieren. Darüber hinaus eignet es sich für eine Vielzahl von Anwendungen, von der allgemeinen Halbleiterverarbeitung bis zur photovoltaischen und optoelektronischen Geräteherstellung. Seine Zuverlässigkeit und Flexibilität machen es eine gute Wahl für jede Art von Dünnschichtabscheidungsprozess.
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