Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9193023 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9193023
Chamber SIP Encore type source assembly and magnet SIP Encore adapter Widebody with shutter assembly 3 Phase enhanced cryo pump E-Chuck assembly Pulsed DC (5 kW).
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA PVD Reactor ist ein fortschrittliches PVD-System (Physical Vapor Deposition) für die Herstellung von heute schwer herzustellenden Geräten. Es bietet eine einheitliche Filmabscheidung ohne häufigen manuellen Eingriff und bietet eine breite Palette von Prozessfähigkeiten. AMAT ENDURA PVD Reactor verfügt über eine plasmaverbesserte induktiv gekoppelte Quelle und ein einzigartiges Prozesskammerdesign, das eine überlegene Kontrolle der Gesamtdicke, die Gleichmäßigkeit von Kammer und Ziel und die Formsteuerung für eine Vielzahl von Materialien, einschließlich Kupfer und anderen Metallfilmen, ermöglicht. APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor ist ein einzelnes Entladewerkzeug, das eine Vielzahl von Größen und Paketen in Batch- und Clusterkonfigurationen verarbeiten kann. Es ist so konzipiert, dass es vollautomatisch mit Hard- und Software ist, die eine einfache Integration von Werkzeugautomatisierungstools ermöglicht. Diese Automatisierungsfähigkeit ermöglicht höhere Qualität und effizientere Produktionserträge. ENDURA PVD Reactor bietet hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit, Kammerisolierung und Ziel-zu-Wafer-Abstand für überlegene Partikelkontrolle und Prozesskonsistenz. Seine Materialfähigkeit ermöglicht eine verbesserte Produktivität und höhere Qualität, während seine vorausschauenden Wartungsfunktionen die proaktive Wartung erleichtern und den gesamten Systembetrieb vereinfachen können. Der AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reaktor verfügt zudem über ein modulares Laufkammerdesign, wartungsarme Komponenten und eine intuitive Benutzeroberfläche. AMAT ENDURA Reactor bietet dank seiner vielfältigen Produktoptionen eine große Skalierbarkeit und Flexibilität, die dem Endanwender die Möglichkeit bieten, seinen spezifischen Prozess zu optimieren. Dieser Reaktor verfügt auch über eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, wie: mehrschichtige Abscheidung, hohe Aspektfilmverhältnisse, mehrstufige Metallisierung und verbesserte Isolierung ohne prozessinduziertes Ätzen. All diese Merkmale sind sehr wichtig auf dem Halbleitermarkt, wo komplexe Bauelemente mit höchster Präzision und Genauigkeit hergestellt werden müssen. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS ENDURA PVD Reactor ein zuverlässiges, präzises und kosteneffizientes Werkzeug für die anspruchsvollsten Halbleiterherstellungsumgebungen. Es bietet überlegene Leistung mit hervorragender gleichmäßiger Filmabscheidung und ausgezeichneter Formkontrolle, was es zu einer idealen Wahl für die Steigerung der Produktivität und die Reduzierung der Zykluszeiten macht. ENDURA PVD Reactor ist ein unschätzbares Werkzeug zur gleichmäßigen Kontrolle der Fertigung bei der Herstellung der heute komplexesten und anspruchsvollsten mikroelektronischen Geräte.
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