Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198500 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA® Reactor ist ein spezialisiertes Gerät, das entwickelt wurde, um verschiedene chemische Prozesse auf einer breiten Palette von Substraten durchzuführen. Dieser Reaktortyp wird in der Halbleiter-, Photovoltaik- (PV) und Dünnschichtabscheidungsindustrie eingesetzt, um Schichten von Folien auf Wafern oder anderen flachen Substraten zu erzeugen. AMAT ENDURA® Reactor ist in der Lage, sowohl die chemische Dampfabscheidung (CVD) als auch die physikalische Dampfabscheidung (PVD) zu verarbeiten. Der Gasschrank der Maschine ist mit bis zu 15 Prozessmodulen ausgestattet, bietet Flexibilität und ermöglicht den Einsatz verschiedener Gase und Chemikalien in derselben Prozesskammer. Die Gaszufuhr und -verteilung wird durch eine ausgeklügelte Abfolge von Ventilen, Öffnungen und Massenstromreglern verwaltet, die eine genaue und gleichmäßige Versorgung mit Gasen gewährleistet, die für den Prozess erforderlich sind. Das Substrat wird in die Kammer eingelegt und vor Beginn des Abscheideprozesses auf die gewünschte Temperatur erhitzt. Nach dem Einbringen aller für das Verfahren benötigten Gase wird dann mit einer Kombination aus HF-Leistung, Gaschemie und Prozessdruck eine richtige Mischung erzielt. Die Gleichmäßigkeit der vom Reaktor abgeschiedenen Folie hängt stark davon ab, dass während des gesamten Abscheidungsprozesses ein gleichmäßiger Druck und eine gleichmäßige Temperatur aufrechterhalten werden. Um diese Gleichmäßigkeit zu erreichen, ist der Reaktor mit einem Quarzbildschirm mit einem Pyrometer zur Überwachung der Substrattemperatur ausgestattet. Der Reaktor verwendet auch eine Kombination von aktiven und passiven Heizverfahren, um eine gleichmäßige und konstante Substrattemperatur zu gewährleisten. Zur präzisen Erwärmung des Substrats werden aktive Heizverfahren wie HF-Induktion und Elektronenstrahl-Linearbewegung eingesetzt. APPLIKATIONSMATERIALIEN ENDURA® Reaktor ist eine vielseitige Maschine, die nahezu jede Prozesschemie und optimale Reaktorbedingungen für eine Vielzahl von Anwendungen einsetzt. Dies macht es für den Kunden zu einer vorteilhaften Wahl für wesentliche Dünnschichtabscheidungsprozesse. Der Reaktor verwendet eine Kombination aus HF-Leistung, Gaschemie und Prozessdruck, um eine zuverlässige wiederholbare Verarbeitung sowie eine gleichmäßige Abscheidung, Schichtabdeckung und Schichtdicke zu gewährleisten.