Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198505 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reactor ist eine fortschrittliche Ex-situ chemische Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung, die hauptsächlich verwendet wird, um großflächige, hochleistungsfähige Halbleiterbauelemente zu schaffen. AMAT ENDURA Reaktor ist in der Lage, verschiedene Materialien abzuscheiden, einschließlich, aber nicht beschränkt auf; ein- oder mehrkristallines Silizium (Si), Germanium (Ge), Kohlenstoff-Nanoröhren (CNT) und andere leitfähige Nanometalllegierungen. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Reaktor stellt einen großen Fortschritt in Kosten und Leistungsfähigkeit im Vergleich zu älteren Plattformtechnologien. ENDURA CVD-System besteht aus einer Drei-Kammer-vertikale Heißwand-Design. Die erste Kammer ist das Lastschloß, das einen schnelleren und sichereren Substrataustausch ermöglicht. Die Zwischenkammer ist die Bearbeitungskammer, in der das Material abgeschieden und die Abscheidegeschwindigkeit gesteuert wird. Die Endkammer ist die Spülkammer, die die Einheit etwaiger Reststoffe spült. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reaktor ist hocheffizient und hat eine niedrige Betriebskosten. AMAT ENDURA Reaktor ist in der Lage, direkt auf sehr große Substrate, bis zu 200mm Wafer abzuscheiden und hat eine hohe Geschwindigkeit Abscheidefähigkeit sowie. Dies ermöglicht hohe Durchsatzraten und Ausbeuten über größere Ansätze von Substraten. Darüber hinaus ist der ENDURA-Reaktor für ANGEWANDTE MATERIALIEN mit fortschrittlichen Werkzeugen und Ressourcen ausgestattet, die eine bessere Kontrolle des Verhaltens der Maschine und eine bessere Prozesswiederholbarkeit und -verfügbarkeit ermöglichen. ENDURA CVD Reaktor bietet direkte Wafer Temperaturregelung, was ein zusätzlicher Vorteil für die Kontrolle der Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung ist. Es verfügt auch über mehrzonige zyklische Prozessfähigkeiten mit einem On-Board-Substrat-Heizwerkzeug und einem Gasmischmodul, das eine bessere Gleichmäßigkeitskontrolle über das gesamte Substrat ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD asset ist auch mit der Auto-Gap-Funktion ausgestattet, die automatisch den Abstand von Substrat zu Duschkopf für konsistente Abscheidungsraten und Gleichmäßigkeit einstellt. AMAT ENDURA CVD-Modell kann für eine Reihe von Anwendungen in allen Arten von Branchen verwendet werden, wie die Herstellung von Dünnschicht-optischen Materialien, Dünnschicht-Metallisierungsschichten und die Schaffung von Halbleiterbauelementen. Diese Funktionen werden von einer Vielzahl von Branchen wie erneuerbaren Energien, Halbleiter-, Elektronik- und Luftfahrtindustrie profitieren. Zusammenfassend ist APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reactor eine revolutionäre Ex-situ chemische Dampfabscheidung Ausrüstung entwickelt, um hervorragende Abscheidungsraten, Einheitlichkeit und niedrige Betriebskosten bieten. ENDURA bietet seinen Anwendern fortschrittliche Werkzeuge wie eine direkte Wafertemperaturregelung, zyklische Mehrzonenprozessfähigkeit und Auto-Gap-Funktion, die dies zu einer idealen Plattform für die Entwicklung von Groß- und Hochleistungs-Halbleiterbauelementen macht.