Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198516 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor ist ein fortschrittliches Plasma-Abscheidungssystem für kupferbasierte Leiterbahnen und Barriereschichten, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Es ist ein einziger Waferreaktor, der neue Plasmaquellentechnologie enthält, um einheitliche Schichten und eine bessere Prozesskontrolle zu gewährleisten. AMAT ENDURA Reactor verfügt über eine fortschrittliche Magnetron-Dual-Source-Architektur, mit der zwei verschiedene Plasmaplasmen mit nahezu gleicher Energie emittiert werden können. Hierdurch wird eine hohe Plasmagleichmäßigkeit bei ausgezeichneter Kontrolle der Abscheidegeschwindigkeit erreicht. Es ermöglicht auch die Abscheidung mehrerer Schichten mit jedem Bearbeitungsschritt, wodurch das Ätzen und andere thermische Behandlungen entfallen. Seine erweiterte Programmierfähigkeit ermöglicht eine präzise und wiederholbare Abscheidung, um gewünschte Ergebnisse zu erzielen. ANGEWANDTE MATERIALIEN ENDURA Reaktor verwendet eine Vielzahl von Abscheidungsmaterialien, einschließlich Kupfer, Kobalt, Wolfram und verschiedenen Metallen, um Schichten für Verbindungen und Schaltungswege bereitzustellen. Die Verwendung von fortschrittlicher Plasmagleichmäßigkeit, hohen Abscheidungsraten und erhöhter Prozesskontrolle ermöglichen es ENDURA, schnell hochwertige Verbindungen zu erhalten. AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA Reaktor wird mit einer mächtigen plasmabasierten Elektronzyklotronklangfülleionisationsquelle ausgestattet, um außergewöhnliche Plasmagleichförmigkeit und hohe Absetzungsleistungsfähigkeit zu bieten. Dies gewährleistet die extrem gleichmäßige Abscheidung von Kupfer- und Kupferlegierungsschichten und ermöglicht die Herstellung fortgeschrittener Kupferleiterbahnen. AMAT ENDURA verfügt über ein Gasfördersystem, das den Gasstrom in Echtzeit misst und entsprechend anpasst, was eine höhere Kontrolle ermöglicht. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Reaktor enthält auch zahlreiche andere Funktionen, wie einen Hochleistungs-HF-Ozon-Generator, erweiterte Programmierbarkeit und benutzerfreundliche Kontrollen, die eine hohe Präzision und Wiederholbarkeit ermöglichen. Dies bietet dem Anwender die Möglichkeit, Verbindungs- und Schaltungswege höchster Qualität zeitnah zu erreichen. Darüber hinaus ist ENDURA so konzipiert, dass es mit einer Vielzahl von Substratmaterialien kompatibel ist, was die Prozessflexibilität für kupferbasierte Materialien verbessert. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor ein fortschrittliches Plasmaabscheidungssystem, das ausgezeichnete Prozesskontrolle, Gleichmäßigkeit und erhöhte Abscheidungsraten für kupferbasierte Verbindungen und Barriereschichten bietet. Es erreicht das durch eine fortgeschrittene magnetron Doppelquelle-Architektur, mächtige plasmabasierte Elektronzyklotronklangfülleionisationsquelle und viele andere Eigenschaften. Das macht den AMAT ENDURA Reactor ideal, um schnell und zuverlässig qualitativ hochwertige Leiterbahnen und Schaltungswege zu erreichen.