Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9198528 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9198528
CH3 Wafer lift assies Part number: 0010-03438.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reaktor ist ein vielseitiges Abscheidungswerkzeug, das in der Mikroelektronik-Industrie eingesetzt wird, um Materialschichten zu schaffen, die für die Herstellung von Halbleitern wesentlich sind. Das Gerät ist für die Abscheidung mehrerer Materialien konzipiert und ermöglicht schnelle Produktänderungen bei minimaler Prozessunterbrechung. Darüber hinaus ermöglicht der Reaktor eine Vielzahl von atomaren Abscheidungsprozessen, von der thermischen chemischen Dampfabscheidung (CVD) über plasmaverstärkte CVD (PECVD) bis zur Elektronenzyklotronresonanz (ECR) PECVD. AMAT ENDURA Reaktor ist eine breitflächige Abscheidekammer, die eine gleichmäßige Abscheidung über großflächige Substrate bietet. Dies wird durch die horizontale Reaktionsrohrkonstruktion ermöglicht, die einen homogenen Reaktionsgasstrom durch die gesamte Kammer erzeugt. Ermöglicht wird dieser Prozess durch das einzigartige und innovative Substratpositionierungssystem, das eine einfache und genaue Positionierung des Substrats bei minimaler Bedienerbeteiligung ermöglicht. Das Reaktionsrohr besteht aus Graphit mit einer pyrolitischen Beschichtung, die zur Optimierung des thermischen Transfers ausgelegt ist und eine Verunreinigung des Substrats während des Abscheidungsprozesses minimiert. Dies geschieht dadurch, dass der Graphit sich leicht ausdehnen oder mit Prozesstemperaturdifferenzen zusammenziehen lässt, so dass die Materialgleichförmigkeit auch bei Temperaturen bis 300 ° C erhalten bleibt. Die obere Duschkopfanordnung der Kammer sorgt für eine gleichmäßige Reaktandengasverteilung über die gesamte Fläche des Substrats. Dies geschieht durch die Bildung eines Duschkopfstrahls, der das Reaktandengas gleichmäßig über das Substrat verteilt. Neben dem Abscheideverfahren bietet der Reaktor APPLIED MATERIALS ENDURA auch eine Reihe von Sicherheits- und Steuerungssystemen. Das Gerät umfasst eine Ultratieftemperatur-Reaktantgasquelle und eine Niedervakuum-Gasquelle. Dadurch können die unterschiedlichen Materialien im Halbleiterbauelement sicher abgeschieden werden. Darüber hinaus ist die Maschine mit umfassenden und präzisen Protokollierungs- und Alarmierungssystemen ausgestattet, die den Bedienern integrale Informationen über den Prozess und die Instabilität des Materials/Schrittes liefern. Insgesamt ist der ENDURA-Reaktor ein unschätzbares Werkzeug, mit dem komplexe, präzise Materialschichten in der Halbleiterherstellung erzeugt werden. Sein fortschrittliches Design sorgt für eine gleichmäßige Abscheidung und minimale Kontamination, während seine Sicherheits- und Kontrollsysteme dafür sorgen, dass auch die empfindlichsten Materialien mit höchster Genauigkeit sicher abgeschieden werden.
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