Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9202897 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9202897
Wafergröße: 12"
CVD Al parts chamber, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA ist ein revolutionärer CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der die Abscheidung ultradünner Materialschichten ermöglicht, um „intelligente“ Beschichtungen, transparente Metalloberflächen und andere funktionelle Materialien zu schaffen. Dieses innovative Abscheidungssystem ist speziell für den Einsatz in chemischen Aufdampfanwendungen konzipiert und bietet einen überlegenen Vorläufertransport und eine einheitliche, wiederholbare Filmabscheidung für eine Reihe von industriellen, Forschungs- und Entwicklungsanwendungen, pharmazeutischen und biotechnologischen Anwendungen. AMAT ENDURA verfügt über eine breite Palette von Funktionen, die es zu einem zuverlässigen und vielseitigen Werkzeug für die chemische Dampfabscheidung machen. Dieser CVD-Reaktor ist mit einer robusten automatisierten Gassteuerungsmaschine ausgestattet, die eine präzise Durchfluss- und Drucksteuerung von Reaktanden und Trägergasen ermöglicht. Dies gewährleistet konsistente und qualitativ hochwertige Ergebnisse bei gleichzeitiger Optimierung von Konversionsraten, Durchsatz und Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung. APPLIKATIONSMATERIALIEN ENDURA verwendet einen einzigartig gestalteten Gasinjektor, der eine minimale Verdünnung des Reaktionspartners und der Trägergase zur detaillierten Kontrolle sowohl der Reaktionskonzentration als auch der Strömungsgeschwindigkeit zur Folge hat. ENDURA enthält auch eine Reihe von Möglichkeiten zur präzisen Regelung der Temperatur der Prozesskammer. Diese Temperierungsmöglichkeiten ermöglichen die exakte Steuerung von Substrat-, Reaktant- und Trägertemperaturen zur schnellen Dünnschichtabscheidung. Darüber hinaus ist AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA mit niedriger Druck- und Temperaturdrift für erhöhte Prozessstabilität und Gleichmäßigkeit der Ergebnisse ausgelegt. Diese Temperaturregelung ermöglicht gleichmäßige und gleichmäßige Schichtdicken, was zu homogenen und zuverlässigen Filmeigenschaften führt. Das Werkzeug AMAT ENDURA verfügt über ein einziges Kammerdesign, das den Substratdurchsatz maximiert und gleichzeitig eine vollständige Reaktanten- und Substratisolierung ermöglicht. APPLIKATIONSMATERIALIEN ENDURA Reaktor verfügt auch über eine kleine Stellfläche, die es ermöglicht, leicht in Labor- und Produktionsumgebungen integriert werden. Darüber hinaus verfügt ENDURA über eine programmierbare Prozesssteuerung mit vollautomatischen Steuerungsfunktionen, die wiederholbare und genau gesteuerte Prozessergebnisse liefert. Letztlich bietet AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA eine effiziente, zuverlässige und vielseitige CVD-Plattform zur Herstellung von Dünnschichtprodukten. Dieses fortschrittliche Reaktormodell ist sowohl für Forschung und Entwicklung als auch für industrielle Anwendungen konzipiert und ermöglicht benutzerdefinierte kundenspezifische Herstellungsprozesse. AMAT ENDURA Reaktor ist auch vielseitig und kostengünstig, so dass Dünnschichtabscheidungsprozesse leicht genaue Anwendungsanforderungen erfüllen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor