Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9240194 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
ID: 9240194
Wafergröße: 8"
System, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA ist ein hochwertiger, geschlossener chemischer Dampfabscheidungsreaktor (CVD), der für die Abscheidung von Dünnschichttransistoranwendungen (TFT) in der Halbleiterindustrie ausgelegt ist. AMAT ENDURA Reaktor verwendet eine Zweizonen-Abscheidekammer, die eine dicht gesteuerte thermische Umgebung ermöglicht, um eine gleichmäßige Filmabscheidung und eine höhere Temperaturempfindlichkeit für den Abscheidungsprozess zu gewährleisten. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Reaktor ist entworfen, um überlegene Foliengleichförmigkeit über große aktive Bereiche unter Beibehaltung ausgezeichneter Geräteleistung zu bieten. ENDURA Reaktor ist mit vereinfachten mechanischen Komponenten ausgelegt, die einen optimalen Substrataustausch, Gaszufuhr und Gleichmäßigkeit während der Abscheidung bieten. Der Reaktor enthält einen internen Gaskrümmer und Ventile, die eine genaue und präzise Gaszufuhr zum Substrat ermöglichen. Die Zweizonenkammer ermöglicht separat gesteuerte thermische Gradienten über den Wafer, eine verbesserte Prozesssteuerung und eine gleichmäßige Filmabscheidung. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reaktor enthält auch eine hocheffiziente magnetische Kühleinrichtung, um thermischen Schock zu reduzieren, wenn das Substrat ausgetauscht wird. Der AMAT ENDURA Reaktor bietet eine gleichmäßige Abscheidung mit minimaler Variation der Filmleistung. Es ist auch entworfen, um sowohl hochleitfähige als auch komplexe Materialprofile mit außergewöhnlicher Präzision abzulegen. Die überlegene Gleichmäßigkeit des Reaktors APPLIED MATERIALS ENDURA macht ihn zu einer ausgezeichneten Wahl für Anwendungen wie Ultra-Klasse-Logik, Active-Matrix-LCDs und High-Speed-Logik-Treiber. ENDURA Reaktor ist ein äußerst leistungsfähiges und vielseitiges CVD-System, das eine Vielzahl von Materialien wie amorphes Silizium, Polysilizium, SiGe und SnO2 abscheiden kann. Das Gerät verfügt über eine Fernbedienung, die eine einfache Überwachung und Bedienung des Reaktors ermöglicht. Darüber hinaus bietet der ENDURA-Reaktor AMAT/APPLIED MATERIALS eine thermische Steuerung mit einer eng gekoppelten Gasfördermaschine, die hohe Ausbeuten bei minimaler Variation der Filmleistung ermöglicht. AMAT ENDURA Reaktor ist zuverlässig, einfach zu bedienen und kostengünstig. Seine überlegene Gleichmäßigkeit, Präzision und Genauigkeit machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Geräteanwendungen in der Halbleiterindustrie. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Reaktor bietet höchste Leistung gepaart mit zuverlässigen, kostengünstigen Abscheidefähigkeiten und ist eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen in der Halbleiterindustrie, die nach qualitativ hochwertigen und zuverlässigen Abscheidungssystemen suchen.
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