Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9258297 zu verkaufen
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ID: 9258297
Wafergröße: 8"
System, 8"
Wide body LLC
V452
HEWLETT PACKARD Robot: Buffer HP and transfer VHP
(2) TTN Chambers
(2) AL Chambers
PCII Chamber
(2) Orient degas chambers
Cryopump: 3-Phase enhanced
(2) CTI 9600 Compressors
NESLAB Chiller.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor ist eine multimoded Prozessplattform, die speziell für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Dieser Reaktor liefert die Genauigkeit des Wafer-Niveaus mit Dampf- und Flüssigkeitsprozessschritten, kombiniert mit branchenführender Wiederholbarkeit mit konsistenten Ergebnissen. AMAT ENDURA Reactor hat die Fähigkeit, sowohl Wafer als auch Substrate präzise zu erwärmen und zu kühlen und bietet eine breite Palette von Temperatur-, Druck- und Strömungsbereichen, um die komplexesten Prozesse zu ermöglichen. Das hochmoderne Design bietet ein dynamisches Thermomanagement, das sowohl für thermische Prozesse als auch für nasse Prozesse geeignet ist. APPLIKATIONSMATERIALIEN ENDURA Reaktor ist mit optimierten Wandeinschlüssen ausgestattet, die eine kurze Einschlusszeit und einen hocheffizienten thermischen Zyklus bieten. Diese Funktion ermöglicht die Skalierbarkeit der Prozesse, so dass alle Wafer mit denselben Ergebnissen verarbeitet werden können. Das dynamische Wärmemanagement schafft einen schnellen thermischen Zyklus, der eine gleichbleibende Leistung gewährleistet. ENDURAs Heizelement ist präzise gesteuert und seine Beschichtungsgleichförmigkeit wird mit der Verwendung von Laser-Interferenz-Reflektometrie (LIR) überprüft, um konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor bietet Anwendern die Möglichkeit, bis zu vier Wafer gleichzeitig zu verarbeiten. Dies ermöglicht eine mehrfache Waferbearbeitung in einem Zyklus, was den Durchsatz und die Effizienz erhöht. AMAT ENDURAs Gasdiffusionskrümmer (GDM) sorgt für homogene Prozesse Gleichmäßigkeit über alle Wafer. Das GDM wurde mit einer ausgeklügelten Laserscanner-Ausrüstung hergestellt, um Genauigkeit und Prozessgleichmäßigkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus ist jedes Modul des Verteilers in der Lage, bis zu vier individuelle Strömungssteuerungsumgebungen bereitzustellen, wodurch der Reaktor an unterschiedliche Prozessanforderungen angepasst werden kann. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Reaktor bietet Temperaturregelung und Prozessflexibilität. Der Reaktor bietet zwei Arten von Temperaturregelung - ein statisches System, das langfristige Genauigkeit und eine dynamische Einheit ermöglicht, die eine schnelle Temperaturverfolgung ermöglicht. Beide Systeme ermöglichen ein schnelles und schnelles Be- und Entladen von Wafern. Die integrierte Datenerfassungsmaschine (DIAS) bietet eine Echtzeit-Überwachung der Leistungsfähigkeit und Prozessstabilität von ENDURA Reactor. Der Reaktor ist auch mit einem gründlichen Auspuffwerkzeug ausgestattet, um sicherzustellen, dass alle Prozessdämpfe sicher erschöpft sind. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reaktor ist ein zuverlässiger, flexibler und vielseitiger Reaktor, der den Anforderungen der fortschrittlichen Halbleiterbauelementproduktion gerecht wird. Diese Ressource bietet eine flexible und zuverlässige Prozesssteuerung und ein genaues Thermomanagement, die sicherstellen, dass alle Wafer mit konsistenten Ergebnissen verarbeitet werden. AMAT ENDURA Reactor ermöglicht eine mehrfache Waferbearbeitung in einem Zyklus und sorgt mit seinem integrierten Datenerfassungsmodell für eine sichere und zuverlässige Abwicklung aller Prozesse.
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