Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9263425 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Dual-Acting Reactor ist ein intern gekühlter Kunststoffreaktor, der speziell für die CVD-Verarbeitung entwickelt wurde. Dieser Reaktor ist eine hochmoderne Abscheidevorrichtung zur Herstellung von fortgeschrittenen Halbleiterbauelementen. Es verwendet sowohl ultraviolettes (UV) als auch radikalisch aktiviertes Plasma, um eine gleichmäßige Abscheidung von Materialien zu erzeugen, die für ultradünne Gate-Dielektrika und leitfähige Schichten geeignet sind. AMAT ENDURA Dual-Acting Reactor ist ein vielseitiger und hocheffizienter Reaktor, der eine kontrollierte Abscheidung auf Substraten bis 300 mm Durchmesser ermöglicht. Sie weist zwei separat betriebene Plasmaquellen auf, eine oben in der Kammer und eine unten in der Kammer. Beide Plasmaquellen können unabhängig voneinander eingestellt werden, um die Prozessparameter und die Abscheidung innerhalb der Prozesskammer zu steuern. Die oberste Plasmaquelle ist ein Niedertemperatur-Siliziumnitrid, das durch ein Aluminiumnitrid (AlN) -Fenster abgeschirmt und mit einem 2,4 kW HF-Generator betrieben wird. Die untere Plasmaquelle ist eine intern gekühlte, induktiv gekoppelte HF-Stromquelle mit einem Temperaturbereich von 219-1200 ° C. Das doppelt wirkende System ermöglicht eine größere Kontrolle des Abscheidungsprozesses, so dass Benutzer ihre Prozesse auf größere Gleichmäßigkeit über größere Substrate abstimmen können. Jede der beiden Plasmaquellen wird unabhängig gesteuert, um den Prozess anzupassen, und sie können in Bezug auf Gesamtkammerdruck, Plasmaleistung und Quellendruck eingestellt werden. Der Reaktor verfügt auch über Automatisierungsfunktionen, wie automatische Abschaltung bei Überschreitung von Prozessparametern, was den Anwendern einen sichereren und effizienteren Plasmaprozess bietet. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Dual-Acting Reactor verfügt über hochzuverlässige Substrat- und Wafer-Handling-Komponenten sowie ein fortschrittliches Roboterbewegungssteuerungssystem, das eine vollständige Automatisierung der gesamten Verarbeitung ermöglicht. Dieser Reaktor soll die Optimierung der drei Hauptbereiche Reaktivität, Temperatur und Abscheiderate unterstützen. Es ist sehr effizient, erfordert geringen Einsatz von Materialien für die Abscheidung und reduziert Kosten im Vergleich zu anderen Lösungen. ENDURA Dual-Acting Reactor ist ein innovatives, hochmodernes Plasmaabscheidungssystem, das der Halbleiterindustrie eine hervorragende Gleichmäßigkeit, verbesserte Prozesssteuerung und Kosteneinsparungen bietet. Mit seiner überlegenen Leistung und zuverlässigen Ergebnissen ist es eine gute Wahl für fortgeschrittene Anwendungen wie Gate-Dielektrikum und Metallschichtabscheidung. Dieser Reaktor ist gut für die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente geeignet und bietet maximalen Durchsatz und Zuverlässigkeit für die anspruchsvollsten Prozesse.