Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9266616 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor ist eine Hochleistungs-CVD (Chemical Vapor Deposition) -Plattform, die zum Anbau einer Vielzahl von Dünnschichtmaterialien verwendet wird. Es kann verwendet werden, um eine Reihe von Dünnschichten einschließlich Polysilizium, Siliziumnitrid, amorphes Silizium, Dielektrika und Metallschichten herzustellen. Mit seiner High-End-Automatisierung kann die Ausrüstung wiederholbare Ergebnisse und verbesserte Produktionsausbeute gewährleisten. Dieses System ist mit dem Advanced Epitaxial Lift-off Performance (ACELP) Substrat Stacker Lader ausgestattet, der hilft, den Produktionsdurchsatz und die Effizienz zu verbessern. Das Gerät ermöglicht es dem Anwender auch, das Rezept schnell und präzise zu ändern, ohne manuell eingreifen zu müssen. Die Prozesskammer wurde entwickelt, um eine breite Palette von Anwendungsanforderungen zu erfüllen, und es bietet auch eine ausgezeichnete Kombination von Prozessstabilität, Gleichmäßigkeit und Kontrolle. Diese Maschine verfügt über einen Hochleistungs-Mikrocontroller, der Automatisierungsfunktionen wie Auto-Learns für mehr Effizienz und Genauigkeit ermöglicht. Es wurde entwickelt, um die Rezept-Komplexität zu reduzieren und Zykluszeiten zu verkürzen. Das Tool verfügt auch über eine leistungsstarke grafische Benutzeroberfläche (GUI), um Anwendern zu helfen, Prozesse schnell einzurichten und zu steuern. Das Asset kann mit einem werksseitigen Automatisierungsmodell zur verstärkten Prozessüberwachung und -steuerung integriert werden. AMAT ENDURA Reactor ist eine sehr zuverlässige und flexible Ausrüstung mit einer breiten Palette von Fähigkeiten. Es eignet sich gut für die Massenproduktion von Hochvolumen- und Mittelschichtanwendungen sowie für die Feinfilmabscheidung auf Forschungsebene. Mit automatisierten Steuerungen und robuster Prozessüberwachung und Berichterstattung liefert dieses System zuverlässige und einheitliche Ergebnisse. Das effiziente und zuverlässige Design dieses Geräts macht es zu einer idealen Wahl für eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungen und Ultrahochvakuumanwendungen.