Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9266968 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reaktor ist ein großes Vakuumverarbeitungsgerät, das bei der Herstellung von Halbleiterplatten verwendet wird. Insbesondere wird AMAT ENDURA Reactor im CVD (Chemical Vapor Deposition) -Verfahren eingesetzt, das ein wichtiger Schritt bei der Herstellung moderner Halbleiterbauelemente ist. ANWENDUNGSMATERIALIEN ENDURA Reaktor besteht aus vier Hauptkomponenten: der Vakuumkammer, dem Prozesseinlass und den Auslässen, der Gasförderanlage und dem Steuersystem. Die Vakuumkammer ist ein hermetisch abgedichtetes Gefäß, das für maximale Sauberkeit und Vakuumniveau innerhalb der Kammer ausgelegt ist. Der Prozessein- und -auslass ermöglicht den Zugang aus der Umgebung in die Kammer, so dass Gase eintreten und Produkte nach Abschluss eines Prozesszyklus entfernt werden können. Die Gasfördereinheit dient dazu, bestimmte Inert- und Reaktionsgase in die Reaktorkammer einzuspritzen, die dann im CVD-Verfahren mit dem Substratmaterial zusammenwirken. Schließlich ermöglicht die Steuerungsmaschine dem Bediener, die Einstellungen der Kammer-, Gasförder- und Prozessparameter genau zu überwachen und zu steuern, um ein konsistentes und qualitativ hochwertiges Produkt zu gewährleisten. Die Eigenschaften von ENDURA Reactor machen ihn zu einer idealen Wahl für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Es kann Temperaturen bis zu 1000 ° C erreichen, so dass die Wechselwirkung von Reaktionsgasen mit Substraten auf atomarer Ebene komplizierte Strukturen wie High-K-Dielektrika und andere komplexe Materialien bildet. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA ist auch für hohen Durchsatz optimiert und ermöglicht die schnelle Verarbeitung von Wafern/Substraten in der CVD-Produktion. Die präzise Steuerung der Reaktorumgebung und der Prozessparameter ermöglichen genaue und wiederholbare Ergebnisse, während die integrierten Sicherheitssysteme die Bedienersicherheit jederzeit gewährleisten. Insgesamt ist AMAT ENDURA Reactor ein fortschrittliches Vakuum-Bearbeitungswerkzeug, das für den CVD-Prozess der Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Seine präzisen Steuerungen und robusten Funktionen ermöglichen eine genaue und wiederholbare Leistung und sind somit eine zuverlässige und erstklassige Wahl für fortschrittliche Fertigungsprozesse.