Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Frame for P5000 #9221729 zu verkaufen

AMAT / Rahmen von APPLIED MATERIALS für P5000 ist ein, Hochleistungsdoppelraumskalarreaktor der plasmaerhöhten chemischen Dampfabsetzung (PECVD). Es wurde entwickelt, um eine Hochdurchsatzabscheidung unterschiedlichster Materialien zu ermöglichen. Dieser Reaktor eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen wie Beschichtungen, dünne Filme und die Verarbeitung von Siliziumscheiben. AMAT Frame für P5000 ist aus einem Edelstahlzylinder auf Aluminiumbasis gefertigt. Dieser Zylinder ist in zwei Reaktionskammern unterteilt: Die obere Kammer dient der Materialabscheidung, während die untere Kammer für Ätzprozesse reserviert ist. Die Kammern sind mit hocheffizienten Turbomolekularpumpen zur präzisen Steuerung des Druck- und Prozessgasstroms ausgestattet. Die obere Kammer weist eine frequenzvariable Quelle auf, die elektrische Energie erzeugt, um das Verfahren anzutreiben. Außerdem verfügt die Kammer über einen Hochleistungsgaskasten, der eine präzise Steuerung von Prozessgasen ermöglicht. ANWENDUNGSMATERIALIEN Rahmen für P5000 bietet eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich Überdruckschutz, Wärmeüberwachung und Verriegelungssysteme. Es verfügt auch über ein integriertes Hochleistungsfiltersystem, das saubere Betriebsbedingungen gewährleistet. Die Kammer bietet auch eine Vielzahl von Funktionen, um die Prozesserträge zu maximieren, einschließlich eines automatischen Flaschenprogramms, einer automatischen Prozesssteuerungseinstellung und Programmen zur Löschdrosselung. Frame for P5000 wurde entwickelt, um eine konsistente und effiziente Abscheidung verschiedener Materialien zu ermöglichen. Es ist auch in der Lage, Prozessgase bei hohen Temperaturen zu handhaben, wodurch hohe Durchsatzraten unter Beibehaltung einheitlicher Prozessparameter ermöglicht werden. Dieser Reaktor ist ideal für die Herstellung von dünnen Schichten aus Halbleitermaterialien wie Silizium, Galliumarsenid und Aluminiumnitrid. Es eignet sich auch zur Abscheidung von Oxiden, Nitriden und Polysiliziumfolien. Schließlich AMAT / der Rahmen von APPLIED MATERIALS für P5000 ist ein, Hochleistungsdoppelraumskalarreaktor der plasmaerhöhten chemischen Dampfabsetzung (PECVD), der für eine Vielfalt von Anwendungen passend ist. Es bietet eine Reihe von Funktionen zur Maximierung der Prozesserträge sowie eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen für Schutz und saubere Betriebsbedingungen. Die Kammer ist in der Lage, Prozessgase bei hohen Temperaturen zu handhaben, wodurch hohe Durchsatzraten unter Beibehaltung einheitlicher Prozessparameter ermöglicht werden. Dies macht es ideal für die Herstellung von dünnen Schichten aus Halbleitermaterialien, wie Silizium, Galliumarsenid und Aluminiumnitrid.