Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK #293608989 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK ist ein Hochleistungs-Ätz-/Oxidationsreaktor, der in der Lage ist, eine Vielzahl von Ätz-, Abscheidungs- und Oxidationsprozessen durchzuführen. Die hoch konfigurierbare Ausrüstung schließt einen Schrittmotor und einen schnelllaufenden, hochauflösenden Mehrachsenscanner ein, es ideal für Prozesse wie das Plasmaätzen, das reaktive Ionsätzen (RIE), das Spritzen, die Oxydation und die Dünnfilmabsetzung machend. AMAT G5 MESA HPK wurde entwickelt, um eine maximale Prozessgleichförmigkeit über den Wafer zu gewährleisten. Hauptkomponenten der Einheit sind eine Kammer, ein Gashandhabungssystem und eine Vakuumeinheit. Die Kammer ist aus Edelstahl gefertigt, mit einem Quarz-Viewport für die Anzeige der Verarbeitung zu ermöglichen. Um maximale Gleichmäßigkeit zu gewährleisten, ist die Kammer mit einer Mehrzonen-Gasverteilungsmaschine, einem Mehrdruck-HF-Generator und einem Mehrfachantennendesign sowie einer Mikrowellen-Stromversorgung ausgestattet, die eine unabhängige Frequenzsteuerung zu jeder Antenne ermöglicht. Das Tool verfügt auch über ein erweitertes Computersteuerungselement, das das Modell über WaferWorks-Software steuern kann. Die Software ermöglicht es Benutzern, Parameter wie Kammerdruck, Wafertemperatur, HF-Leistung und Antennenparameter mit Leichtigkeit einzustellen. Zusätzlich überwacht die Software Reaktionsaktivitäten und Diagnosen, um sicherzustellen, dass alle Prozesse reibungslos ablaufen. Das Gas Handling Equipment für APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK wurde entwickelt, um genaue und wiederholbare Ergebnisse zu liefern. Es ist in der Lage, sowohl massenstromgesteuerte Kanäle als auch Quellventile mit einem Gemisch von definierten Gasen aus einer Vielzahl von Quellen zu steuern. Das System ermöglicht eine Vielzahl von Prüfgasen und Ätzchemikalien, um sicherzustellen, dass Benutzer ihre Prozesse für spezifische Bedürfnisse und Anwendungen anpassen können. G5 MESA HPK verfügt auch über eine Vakuumeinheit, einschließlich einer Ionenpumpe, einer Getterkammer, einer Kryopumpe und einer Turbopumpe. Die Kombination dieser Systeme ermöglicht hohe Vakuumspiegel, so dass alle Reaktionsaktivitäten in einer extrem schmutzarmen Umgebung stattfinden. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK ein fortschrittlicher Ätz-/Oxidationsreaktor, ideal für eine Vielzahl von Prozessen. Von Plasmaätzen, Sputtern, Oxidation und Dünnschichtabscheidung über fortschrittliche Computersteuerung bis hin zu ausgeklügelten Gashandhabungs- und Vakuumsystemen stellt diese Hochleistungsmaschine sicher, dass Anwender höchste Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit über ihre Wafer erreichen können.