Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA #9311362 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA ist 200 Millimeter, hohe Temperatur, tiefes Silikon, ätzen für die fortgeschrittene Halbleitergerätherstellung entwickelten Reaktor. Es bietet ausgezeichnete Selektivität und Ätzgleichmäßigkeit in Merkmalen mit Seitenverhältnissen bis zu 10 und eignet sich für MEMS-Anwendungen und andere Ätzprozesse wie Norwood und Unibond. Der AMAT G5 MESA Reaktor verfügt über fortschrittliche Prozessoptimierungs- und Steuerungsalgorithmen, die eine überlegene Ätzgleichmäßigkeit über eine Reihe von Substratmaterialien bieten. Seine integrierten Prozesskontrollüberwachungs- und Fehlererkennungsalgorithmen passen die Ätzrate an, ohne den Durchsatz zu beeinträchtigen. Es verfügt auch über erweiterte Sauerstoffzufuhrsteuerung für schnellere Zykluszeit und verbesserte Selektivität. ANGEWANDTE MATERIALIEN G5 MESA reagieren schafft eine hoch sauerstoffhaltige Ätzumgebung, um die Selektivität der Funktionen zu verbessern und die Prozessleistung weiter zu verbessern. Der G5 MESA-Reaktor eignet sich zum Ätzen von Substraten auf Kieselsäurebasis wie Quarz, optischem Glas und Saphir und eignet sich zum Ätzen von dünnen Filmen, gebundenen Wafern und Multi-Chip-Modulen. Es verfügt über eine hochauflösende Bildverarbeitungsoptik, mit der Benutzer die Auflösungseinstellungen für großflächige oder kleine Funktionsanwendungen anpassen können. Es verfügt auch über ein Gasfördersystem mit Echtzeit-Sensor-basierten Komponenten, die Ätzleistung optimiert. Darüber hinaus bietet der AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA Reaktor hohe Temperaturfähigkeit zur Verbesserung der Plasmastabilität und hilft bei der Selektivität und Gleichmäßigkeit von Profil und Geometrie geätzter Merkmale. Die fortschrittlichen Ätzprozesssteuerungsalgorithmen kombinieren mit der hohen Temperaturfähigkeit, um eine überlegene Prozessleistung zu erzielen. Das große Prozessfenster im AMAT G5 MESA Reservoir erhöht den Gerätedurchsatz weiter. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der G5 MESA Reaktor ist für Mehrbenutzeranwendungen in Forschung, Prozesssteuerung, Fehleranalyse und Geräteproduktion konzipiert. Es ist hochgradig konfigurierbar und mit bestehenden Lithographiesystemen kompatibel, so dass mehrere Prozessmodule und Systemintegration möglich sind. Mit einer erweiterten Palette verfügbarer Prozessoptimierungs- und Steuerungsalgorithmen und einer umfangreichen Liste verfügbarer Optionen bietet der G5 MESA Reaktor eine hervorragende Geräteausbeute und verbesserte Prozessleistung.