Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS H20 VDSII #293647380 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS H20 VDSII ist eine hochleistungsfähige, kostengünstige CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition) für die Halbleiterverarbeitung. Der Reaktor ist für die Abscheidung dünner Filme bei niedrigen Temperaturen und minimaler Verschmutzung und Gasbelastung ausgelegt. Zu den Komponenten des Systems gehören eine Stromversorgung, die die Prozesskammern mit Strom versorgt, eine Vakuumpumpe, eine Reaktantenzufuhreinheit und ein Prozessabgas. Die Stromversorgung ist ein DC/AC-Wandler, der Ströme bis zu 30 Ampere bei 500 Volt liefern kann. Die Vakuumpumpe ist eine Turbomolekularpumpe, die einen Basis- und Quellvakuumdruck von 2.5e-7 Torr bzw. 5e-7 Torr liefert. Die Reaktantenzufuhrmaschine verfügt über Präzisionsstromregelventile und Pumpen, und der Prozessabzug ist ein Mehrdüsen-Diffusionswerkzeug, das Reaktionsprodukte und Partikel aus dem Reaktor entfernt. AMAT H20 VDSII ist in der Lage, eine Reihe von CVD-Prozessen durchzuführen, einschließlich direkter und selektiver CVD, Nassoxidation und Nitrid-Passivierung. Der Abscheidungstemperaturbereich erstreckt sich von Raumtemperatur bis 850 ° C mit einer Abscheiderate von 6-8micron/Minute je nach Prozessbedingungen. Das Asset kann bis zu 16 Gas-Linien aufnehmen und ermöglicht die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien. Der Reaktor wurde entwickelt, um die Wiederholbarkeit des Prozesses zu maximieren und den Wartungsaufwand zu minimieren. Es weist ein automatisiertes Wafer-Rekonditionierungsmodell auf, bei dem die Wafer von der Ladestation zur Rekonditionierungsstation übertragen werden, um etwaige Partikelverunreinigungen aus vorherigen Prozessen zu entfernen. Das Gerät verfügt auch über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie Bodenfehlersensoren, zum Schutz von Personal und Vermögenswerten. Das überlegene Design von APPLIED MATERIALS H20 VDSII sorgt für maximale Verarbeitungseffizienz und Gleichmäßigkeit auf einer breiten Palette von Substraten. Seine Energieeffizienz, minimierte Gasbeladung und sein breites Prozessfenster machen es zu einem idealen System für die Abscheidung von Halbleiterfilmen. Diese kostengünstige Einheit eignet sich sowohl für Forschung und Entwicklung als auch für kommerzielle Produktionsanwendungen.