Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS HTHU #185712 zu verkaufen
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ID: 185712
Wafergröße: 8"
PVD Chamber, 8"
HTHU PVD Chamber Hot Aluminum
HT MCA+ESC.
AMAT/APPLIED MATERIALS HTHU (High Temperature/High Flux Ultra High Vacuum Reactor) ist eine ultra-hohe Vakuum-Abscheidung Ausrüstung für moderne Forschungsanwendungen entwickelt. Es verwendet fortschrittliche Ultrahochvakuum-Abscheidungssysteme, die die Abscheidung dünner Materialschichten auf Substraten bei Temperaturen von über 1450 ° C ermöglichen. Dies macht das System ideal für Anwendungen wie wachsende III-V-Verbindungshalbleiter, Graphen und Bornitrid. AMAT HTHU besteht aus zwei Hauptkomponenten: der Reaktorkammer und der Verdampfungsquelle. Die Reaktorkammer ist aus Edelstahl gefertigt und soll ein Vakuum von 1E-6 Torr aufrechterhalten (niedriger als normaler Atmosphärendruck). Innerhalb der Reaktorkammer befindet sich die Verdampfungsquelle, mit der Materialproben auf das Substrat gesputtert oder verdampft werden. In der Verdampfungsquelle ist auch eine Ionenpistole enthalten, die zum Ätzen, Reinigen und Modifizieren des Materials auf der Oberfläche des Substrats verwendet wird. Die Verdampfungsquelle verwendet zur Materialverdampfung eine Hochfrequenzleistungsquelle, die zwischen E-Strahl und CVD (Chemical Vapor Deposition) umschaltbar ist. Dies ermöglicht die Steuerung der Substrattemperatur, des Flusses und des Drucks während der Abscheidung, wodurch Materialstärke und -morphologie gesteuert werden können. Darüber hinaus ermöglicht die umfangreiche Steuerung von Parametern eine Optimierung des Abscheideprozesses, eine Erhöhung der Diffusionsgeschwindigkeit, eine Erhöhung der Filmhomogenität und eine Verbesserung der Filmhaftung. Um Präzision und Genauigkeit während des Abscheidungsprozesses zu gewährleisten, wird die Einheit MFC (Mass Flow Controller) verwendet, um den Druck einzustellen, wodurch ein gut kontrollierter Fluss von Gemischgasen innerhalb des Reaktors ermöglicht wird. Diese Kombination aus Temperatur- und Druckregelung sowie eine hohe Temperaturfähigkeit ermöglichen äußerst zuverlässige Ergebnisse. Darüberhinaus ist APPLIED MATERIALS HTHU mit einer Loadlock-Anlage ausgestattet, um eine effiziente Aufbereitung der Substrate vor der Beladung in die Reaktorkammer zu gewährleisten. Dieses Merkmal ermöglicht auch ein schnelles Zyklen von Substraten, was den gesamten Maschinendurchsatz erhöht. Schließlich HTHU hoher Temperatur/hoher Flussultrahochvakuumreaktor ist ein fortgeschrittenes Absetzungswerkzeug für Forschungsanwendungen. Es verfügt über erweiterte HF-Verdampfungs-, Ionenätz- und hochgenaue Temperatur-, Druck- und Flusssteuerungsfunktionen, die eine vollständige Kontrolle des Ablagerungsprozesses ermöglichen. Seine Belastbarkeit ermöglicht ein effizientes Zyklen von Substraten, wodurch es sehr effizient und zuverlässig ist.
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